处理方法和电子设备技术

本发明专利技术的目的在于提供一种电子设备所具备的显示面板的新的表面处理方法。其为电子设备所具备的显示面板的处理方法，包括：对上述显示面板的表面的至少部分区域照射等离子体的步骤；和至少对照射了上述等离子体的区域施用表面处理剂，形成第一表面处理层的步骤，上述表面处理剂含有含氟硅烷化合物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及电子设备所具备的显示面板的处理方法和电子设备。

技术介绍

1、为了赋予基材以各种特性，可以形成各种涂层。

2、在专利文献1和2中记载了在制备需要至少部分不设置涂层的表面的基板时，利用等离子体从实施了涂敷的基板去除涂层的方法。

3、在专利文献3中记载了对于利用粘接剂将包括残留部分和剥离部分的膜贴附于被处理面的被处理基板，在贴附之前进行表面处理时，将工艺气体等离子体化，使其与非处理面接触的方法。

4、现有技术文献

5、专利文献

6、专利文献1：日本特开2011－82184号公报

7、专利文献2：日本特表2007－527093号公报

8、专利文献3：日本特开2019－73399号公报

技术实现思路

1、专利技术所要解决的课题

2、本专利技术的目的在于提供一种电子设备所具备的显示面板的新的表面处理方法。

3、用于解决课题的技术方案

4、本专利技术包括以下方式。>

5、[1]一本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种电子设备所具备的显示面板的处理方法，其特征在于，

2.如权利要求1所述的处理方法，其特征在于，

3.如权利要求1或2所述的处理方法，其特征在于，

4.如权利要求1～3中任一项所述的处理方法，其特征在于，

5.如权利要求1～4中任一项所述的处理方法，其特征在于，

6.如权利要求1～5中任一项所述的处理方法，其特征在于，

7.如权利要求1～6中任一项所述的处理方法，其特征在于，

8.如权利要求1～7中任一项所述的处理方法，其特征在于，

9.如权利要求1～8中任一项所述的处理方法，其特征在于...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种电子设备所具备的显示面板的处理方法，其特征在于，

2.如权利要求1所述的处理方法，其特征在于，

3.如权利要求1或2所述的处理方法，其特征在于，

4.如权利要求1～3中任一项所述的处理方法，其特征在于，

5.如权利要求1～4中任一项所述的处理方法，其特征在于，

6.如权利要求1～5中任一项所述的处理方法，其特征在于，

7.如权利要求1～6中任一项所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：前平健，本多义昭，三桥尚志，
申请(专利权)人：大金工业株式会社，
类型：发明
国别省市：