【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及脑电监测，尤其涉及一种脑电电极的导电膏注射方法、系统、设备及存储介质。
技术介绍
1、脑电电极的导电膏注射技术是脑电监测领域的重要环节，其发展对于提高脑电信号采集的质量和效率具有重要意义。目前，导电膏的注射技术通过人工用注射器缓慢注射到电极与头皮之间，且需要不断的观测电极与头皮之间的接触电阻值，配合调整注射的手法以降低电极与头皮之间的接触电阻。但人工注射导电膏具有一定的技巧性，是头皮脑电实验准备环节中最耗时的工作。因此，对于采用高密度的脑电帽采集头皮脑电，如何实现自动化且快速安全的注射导电膏是一项颇具挑战性的工作。
2、上述内容仅用于辅助理解本专利技术的技术方案，并不代表承认上述内容是现有技术。
技术实现思路
1、本专利技术的主要目的在于提供了一种脑电电极的导电膏注射方法、系统、设备及存储介质，旨在解决如何实现自动化且快速安全的注射导电膏的技术问题。
2、为实现上述目的，本专利技术提供了一种脑电电极的导电膏注射方法，所述脑电电极的导电膏注射方法包括：<...
【技术保护点】
1.一种脑电电极的导电膏注射方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述遍历脑电帽内置的多个脑电电极，包括：
3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述当前脑电电极的标定板图像计算电极中心相对坐标，包括：
4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于所述电极中心相对坐标控制机械臂末端的注射器将初始规划注射量的导电膏均匀注射至所述当前脑电电极与头皮之间的空隙，包括：
5.如权利要求1-4任一项所述的方法，其特征在于，所述根据所述接触阻抗值和所述导电膏注射数据调整导电膏
【技术特征摘要】
1.一种脑电电极的导电膏注射方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述遍历脑电帽内置的多个脑电电极，包括：
3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述当前脑电电极的标定板图像计算电极中心相对坐标，包括：
4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于所述电极中心相对坐标控制机械臂末端的注射器将初始规划注射量的导电膏均匀注射至所述当前脑电电极与头皮之间的空隙，包括：
5.如权利要求1-4任一项所述的方法，其特征在于，所述根据所述接触阻抗值和所述导电膏注射数据调整导电膏注射操作，包括：
6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述将所述当前导电膏注射量、所述注射时长及所述接触阻抗值输...
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