【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及信息安全,具体涉及一种基于1t1r的真随机数生成器电路及其生成随机数的方法。
技术介绍
1、硬件真随机数生成器trng利用物理过程产生真正随机的数值,本质上不可预测,相较于传统依赖于确定性算法和种子值的伪随机数生成器prng更加安全,因此成为数据加密和安全通信的理想选择。主流的存储技术,如动态随机存储器dram、静态随机存储器sram和闪存flash,都基于电荷存储。然而,随着工艺尺寸缩小至10纳米及更高节点,这些存储器面临着严重的可扩展性挑战,在功耗、速度、密度和耐久性等方面都难以满足未来高能效、小型化和高性能trng的需求。阻变存储器忆阻器因其独特的优势脱颖而出。相比其他新型非易失性存储器,忆阻器简单的金属-绝缘体-金属mim(metal-insulator-metal)结构,具有更低的制造成本和更高的存储密度。其更低的编程电压、更快的写/读速度和更好的可扩展性,能够同时满足低功耗和高访问速度的要求,使得忆阻器在紧凑型、低功耗的安全硬件设计中具有巨大潜力。此外,忆阻器发生高低阻态切换时,其周期变化和读取电流中的噪声构成
...【技术保护点】
1.一种基于1T1R的真随机数生成器电路,其特征在于,包括忆阻器、晶体管以及T触发器;
2.根据权利要求1所述的基于1T1R的真随机数生成器电路,其特征在于,所述忆阻器为易失性忆阻器,初始状态为高阻态。
3.根据权利要求1所述的基于1T1R的真随机数生成器电路,其特征在于,所述1T1R结构为一晶体管一忆阻器堆叠集成制备,具体是,在硅衬底上经过热氧化形成二氧化硅层后,经过图案化光刻工艺定义栅极区域,进行栅极薄膜的沉积,即为底栅的制备;然后进行栅氧化层的沉积,作为隔离层;再经过图案化光刻工艺定义沟道区域,沉积晶体管的沟道层;经过图案化光刻工艺定义源
...【技术特征摘要】
1.一种基于1t1r的真随机数生成器电路,其特征在于,包括忆阻器、晶体管以及t触发器;
2.根据权利要求1所述的基于1t1r的真随机数生成器电路,其特征在于,所述忆阻器为易失性忆阻器,初始状态为高阻态。
3.根据权利要求1所述的基于1t1r的真随机数生成器电路,其特征在于,所述1t1r结构为一晶体管一忆阻器堆叠集成制备,具体是,在硅衬底上经过热氧化形成二氧化硅层后,经过图案化光刻工艺定义栅极区域,进行栅极薄膜的沉积,即为底栅的制备;然后进行栅氧化层的沉积,作为隔离层;再经过图案化光刻工艺定...
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