【技术实现步骤摘要】
本申请属于光刻领域，尤其涉及一种掩模图像生成方法、装置、电子设备和存储介质。
技术介绍
1、光刻是芯片制造过程中的核心环节，随着光刻系统分辨率不断提高，光的衍射和干涉效应变得越来越明显，使得晶圆上的光刻图案变得失真和模糊。相关技术中，主要采用光刻仿真的方法来提高分辨率，如采用基于模型的光学邻近校正方法（mb-opc），根据物理、化学以及光学等规律设计一套算法，并经过多次迭代计算来提高光刻系统的分辨率，该方法效率低，实现难度大，且难以适用于复杂多变的光刻场景。
技术实现思路
1、本申请旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本申请提出一种掩模图像生成方法、装置、电子设备和存储介质，能够得到更加精准的掩模图像，提高光刻系统的分辨率，具有较高的灵活性和普适性。
2、第一方面，本申请提供了一种用于光刻机的掩模图像生成方法，该方法包括：
3、获取多个目标工艺参数；
4、将所述多个目标工艺参数输入至目标网络模型的多层感知层，获取所述多层感知层输出的目标重构图
5本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种用于光刻机的掩模图像生成方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的用于光刻机的掩模图像生成方法，其特征在于，所述将所述多个目标工艺参数输入至目标网络模型的多层感知层，获取所述多层感知层输出的目标重构图像，包括：
3.根据权利要求1所述的用于光刻机的掩模图像生成方法，其特征在于，所述获取多个目标工艺参数，包括：
4.根据权利要求1-3任一项所述的用于光刻机的掩模图像生成方法，其特征在于，所述多个目标工艺参数包括：曝光剂量和光刻胶参数。
5.根据权利要求1-3任一项所述的用于光刻机的掩模图像生成方法，其特征在...
【技术特征摘要】
1.一种用于光刻机的掩模图像生成方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的用于光刻机的掩模图像生成方法，其特征在于，所述将所述多个目标工艺参数输入至目标网络模型的多层感知层，获取所述多层感知层输出的目标重构图像，包括：
3.根据权利要求1所述的用于光刻机的掩模图像生成方法，其特征在于，所述获取多个目标工艺参数，包括：
4.根据权利要求1-3任一项所述的用于光刻机的掩模图像生成方法，其特征在于，所述多个目标工艺参数包括：曝光剂量和光刻胶参数。
5.根据权利要求1-3任一项所述的用于光刻机的掩模图像生成方法，其特征在于，所述训练样本基于如下步骤获取：
6.根据权利要求1-3任一项所述的用于...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄磊，詹灏民，张猛，周宇，陆磊，韩子娟，
申请(专利权)人：深圳大学，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。