一种低红外吸收系数Y2O3透明陶瓷及其制备方法技术

技术编号:45842802 阅读:13 留言:0更新日期:2025-07-19 11:06
本发明专利技术公开了一种低红外吸收系数Y<subgt;2</subgt;O<subgt;3</subgt;透明陶瓷及其制备方法,包括以下步骤:将Y<subgt;2</subgt;O<subgt;3</subgt;粉末干压成型,经冷等静压处理得到陶瓷素坯;将陶瓷素坯在600~1250℃下排胶;将排胶后的素坯在真空度≤10 Pa、温度400~1550℃下进行真空热处理,以去除残留羟基;将真空热处理后的样品在空气或氧气中预烧;对预烧后的样品进行热等静压烧结实现陶瓷致密化,获得Y<subgt;2</subgt;O<subgt;3</subgt;透明陶瓷。采用本发明专利技术的制备方法,可不必配备昂贵的高真空烧结炉,使用简单的气氛烧结炉即可完成Y<subgt;2</subgt;O<subgt;3</subgt;透明陶瓷的预烧,获得高光学质量Y<subgt;2</subgt;O<subgt;3</subgt;透明陶瓷。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于陶瓷烧结领域,尤其涉及一种低红外吸收系数y2o3透明陶瓷及其制备方法。


技术介绍

1、氧化钇由于其具有优良的物理化学性能,但熔点较高,在制备单晶时的成本和难度较高,所以 y2o3基透明陶瓷得到了广泛研究与应用。y2o3透明陶瓷具有非常低的红外发射率,是红外整流罩以及红外光窗的理想材料。但是,在氧化钇陶瓷中,如果残留羟基,2.8-4微米波段会产生强烈的宽带吸收,会影响材料的透过率降低以及吸收损耗的增大,使红外发射系数恶化,影响陶瓷在该波段的应用。

2、传统的y2o3陶瓷烧结,一般采用真空烧结结合热等静压。但是,传统的真空烧结既要高真空又要高温度,特别是在大尺寸下对真空烧结炉要求很高,并且高真空烧结炉价格昂贵。如果能够免去在高温下的高真空烧结步骤,将极大降低烧结成本。


技术实现思路

1、针对现有技术的不足,本专利技术提供一种低红外吸收系数y2o3透明陶瓷及其制备方法。本专利技术采用真空热处理方法先将氧化钇陶瓷在相对较低的温度下,在一定的真空度下实现对样品中残留羟基的消除,再通过空气预烧或本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种低红外吸收系数Y2O3透明陶瓷的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述干压成型的压力为5~10 MPa,冷等静压的压力为100~300 MPa。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述排胶的升温速率为1~10℃/min,保温时间为2~10h。

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述真空热处理的温度为600~1400℃,保温时间为2~10h。

5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述预烧的温度为1400~1700℃,保温时间为1~15h,升温速率为1~...

【技术特征摘要】

1.一种低红外吸收系数y2o3透明陶瓷的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述干压成型的压力为5~10 mpa,冷等静压的压力为100~300 mpa。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述排胶的升温速率为1~10℃/min,保温时间为2~10h。

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述真空热处理的温度为600~1400℃,保温时间为2~10h。

5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述预烧...

【专利技术属性】
技术研发人员:王俊王雪儿王莹刘鹏马杰章健沈德元唐定远
申请(专利权)人:江苏师范大学
类型:发明
国别省市:

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