感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀剂图形的形成方法以及印刷电路板的制造方法技术

本发明专利技术的感光性树脂组合物，其含有（Ａ）含有酸改性乙烯基的环氧树脂、（Ｂ）包含具有肟酯键的化合物的光聚合引发剂、和（Ｃ）具有硫醇基的化合物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀剂图形的形成方法以 及印刷电路板的制造方法。
技术介绍
一直以来，印刷线路板制造中的永久掩蔽抗蚀剂，通过对热或紫外线固 化型的抗蚀剂油墨进行丝网印刷的方法制作。近年来，随着电子设备的高集 成化，印刷线路板中配线图形和绝缘图形的高精细化成为必需。然而，通过 以往的丝网印刷进行的抗蚀剂形成法，由于印刷时产生渗漏、滴珠缺陷(夕、' ^)等，因此难以形成高精细的抗蚀图像。因此，为了形成高精细的抗蚀图像，直到开发了使用光刻法(photolitography)的抗蚀图像形成法。具体来说， 是将干式膜型的感光性抗蚀剂热压合在基材上，或者将液状的感光性抗蚀剂 帘涂或喷涂在基材上，再隔着负型掩模照射紫外线等活性光线后，通过显影 形成抗蚀图像的方法。在使用干式膜型的感光性抗蚀剂的情况下，在对基材 进行热压合时，容易巻入空气而产生气泡，因此产生了密合性降低、抗蚀图 像混乱的情况，并存在有抗蚀性能降低的担忧。另一方面，液状的感光性抗蚀剂，有溶剂显影型和碱显影型，但是从保 护作业环境、保护地球环境的观点考虑，碱显影型成为主流。作为这种碱显 影型的感光性抗蚀剂本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种感光性树脂组合物，含有：　（Ａ）含有酸改性乙烯基的环氧树脂；　（Ｂ）包含具有肟酯键的化合物的光聚合引发剂；以及　（Ｃ）具有硫醇基的化合物。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2007-5-11 127224/20071.一种感光性树脂组合物，含有(A)含有酸改性乙烯基的环氧树脂；(B)包含具有肟酯键的化合物的光聚合引发剂；以及(C)具有硫醇基的化合物。2. 根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，进一步含有(D)极大吸收 波长在370nm ~ 450nm范围内的增感剂。3. 根据权利要求1或2所述的感光性树脂组合物，其中，前述具有肝酯 键的化合物包含下述通式(1 )或(2)所表示的化合物的至少一种，式(1 )中，R1表示碳数为2 ~ 12的取代或未取代的烷酰基、双键与羰基 未共轭的碳数为4~6的取代或未取代的烯酰基、取代或未取代的苯曱酰基、 碳数为2-6的取代或未取代的烷氧基羰基、或取代或未取代的苯氧基羰基， r2、 rS和rA各自独立地表示面素原子、碳数为1 ~ 12的取代或未取代的烷基、 取代或未取代的环戊基、取代或未取代的环己基、取代或未取代的苯基、取代 或未取代的节基、取代或未取代的苯曱酰基、碳数为2~ 12的取代或未取代的 烷酰基、碳数为2~ 12的取代或未取代的烷氧基羰基、或取代或未取代的苯氧 基羰基，ml表示0-4的整数，m2和m3各自独立地表示0 ~ 5的整数；其中， 当ml为2以上时，存在的多个W各自可以相同或不同，当m2为2以上时， 存在的多个RS各自可以相同或不同，当m3为2以上时，存在的多个W各自可以相同或不同；<formula>formula see original document page 3</formula>式(2)中，rs表示取代或未取代的苯基、碳数为1 6的取代或未取代 的烷基、取代或未取代的苯基、碳数为1 20的取代或未取代的烷基、碳数为 5~8的取代或未取代的环烷基、碳数为2-20的取代或未取代的烷酰基、或 取代或未取代的苯曱酰基，116表示碳数为2~12的取代或未取代的烷酰基、 双键与羰基未共轭的碳数为4~6的取代或未取代的烯酰基、取代或未取代的 苯曱酰基、碳数为2~6的取代或未取代的烷氧基羰基、或取代或未取代的苯 氧基羰基，W表示氢原子、卣素原子、碳数为1 ~ 12的取代或未取代的烷基、 取代或未取代的环戊基、取代或未取代的环己基、取代或未取代的苯基、取代 或未取代的千基、取代或未取代的苯曱酰基、碳数为2~ 12的取代或未取代的 烷酰基、碳数为2- 12的取代或未取代的烷氧基羰基、或取代或未取代的苯氧 基羰基，r8、 119和111()各自独立地表示卣素原子、碳数为1~12的取代或未取 代的烷基、取代或未取代的环戊基、取代或未取代的环己基、取代或未取代的 苯基、取代或未取代的千基、取代或未取代的苯曱酰基、碳数为2~ 12的取代 或未取代的烷酰基、碳...

【专利技术属性】
技术研发人员：大川昌也，佐藤邦明，吉野利纯，片木秀行，日高敬浩，
申请(专利权)人：日立化成工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]