基板处理方法技术

本发明专利技术提供一种可在基板的主面上更均一地使药液开始作用的技术。本发明专利技术的基板处理方法包含步骤(S1)(保持工序)、步骤(S3)(预湿工序)、及步骤(S4)(药液处理工序)。在步骤(S1)中，保持在主面具有复数个裸片的基板。在步骤(S3)中，以冲洗液覆盖复数个裸片的旋转速度使基板旋转，且对基板的主面供给冲洗液。在步骤(S4)中，在步骤(S3)之后，以药液覆盖复数个裸片的旋转速度使基板旋转，且自第1喷嘴向基板的主面供给药液。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本公开涉及一种基板处理方法。

技术介绍

1、以往提出有对基板供给处理液而处理基板的基板处理装置(例如专利文献1)。在专利文献1中，基板处理装置包含旋转卡盘、第1药液喷嘴、第2药液喷嘴、及冲洗液喷嘴。旋转卡盘以水平姿势保持基板，且使基板绕通过基板的中心的铅垂的旋转轴旋转。第1药液喷嘴是喷淋喷嘴。第1药液喷嘴及第2药液喷嘴向旋转中的基板的上表面并行地喷出药液。药液由于在基板的上表面扩展，故药液作用于基板的上表面的整面。接着，冲洗液喷嘴向旋转中的基板的上表面喷出冲洗液。由此，基板的上表面的药液由冲洗液冲洗掉。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特开2018-195738号公报

技术实现思路

1、专利技术所要解决的问题

2、有时对包含支撑基板、及贴附于支撑基板的主面的复数个裸片的基板进行处理。由于裸片的厚度相较于图案的厚度大，故在基板的主面形成较深的凹凸。因而，若向基板的主面喷出药液，则因凹凸而产生液体飞溅，或基板的主面上的药液的流动因凹凸而不均一。因本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基板处理方法，其中，包含：

2.如权利要求1所述的基板处理方法，其中，

3.如权利要求2所述的基板处理方法，其中，

4.如权利要求2或3所述的基板处理方法，其中，

5.如权利要求2或3所述的基板处理方法，其中，

6.如权利要求2或3所述的基板处理方法，其中，

7.如权利要求2或3所述的基板处理方法，其中，

8.如权利要求7所述的基板处理方法，其中，

9.如权利要求7所述的基板处理方法，其中，

10.如权利要求9所述的基板处理方法，其中，

11.如权利要求9所述的...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种基板处理方法，其中，包含：

2.如权利要求1所述的基板处理方法，其中，

3.如权利要求2所述的基板处理方法，其中，

4.如权利要求2或3所述的基板处理方法，其中，

5.如权利要求2或3所述的基板处理方法，其中，

6.如权利要求2或3所述的基板处理方法，其中，

7.如权利要求2或3所述的基板处理方法，其中，

8.如权利要求7所述的基...

【专利技术属性】
技术研发人员：西村优大，西森大智，日野出大辉，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：