一种软阴影渲染方法、装置、显示芯片以及电子设备、存储介质制造方法及图纸

本公开涉及一种软阴影渲染方法、装置、显示芯片以及电子设备、存储介质，包括：根据待渲染对象的初始阴影掩膜和光线方向、当前扩散起点和候选像素点的位置，确定扩散分析结果；在扩散分析结果指示满足阴影扩散条件的情况下，根据候选像素点的位置及阴影起始点的位置，确定扩散系数；根据扩散系数和候选像素点的初始像素值，确定其目标像素值，并将候选像素点确定为新扩散起点，基于广度优先遍历算法确定新候选像素点，迭代执行上述步骤至满足预设终止条件；根据满足阴影扩散条件的像素点的目标像素值，确定第一目标阴影。本公开实施例可以沿光线方向对待渲染对象的硬阴影进行扩散模糊，生成渐变柔和的阴影边缘，实现模拟现实世界的真实投影效果。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及图形显示，尤其涉及一种软阴影渲染方法、装置、显示芯片以及电子设备、存储介质。

技术介绍

1、在现实世界中，光源通常不是点光源，而是具有一定面积的面光源或体积光源；这种光源产生的阴影边缘是渐变、柔和的，通常称为软阴影。而现有技术中的阴影渲染技术，其渲染结果通常是边缘锐利的硬阴影，导致阴影的视觉效果不够自然真实。

技术实现思路

1、有鉴于此，本公开提出了一种软阴影渲染方法、装置、显示芯片以及电子设备、存储介质的技术方案。

2、根据本公开的一方面，提供了一种软阴影渲染方法，包括：根据待渲染对象对应的初始阴影掩膜和光线方向、当前扩散起点对应的位置和候选像素点对应的位置，确定所述候选像素点对应的扩散分析结果，其中，所述扩散分析结果用于指示所述候选像素点是否满足预设的阴影扩散条件，所述当前扩散起点为已经确认满足所述阴影扩散条件的任意一个像素点，或所述待渲染对象对应的阴影起始点；在所述扩散分析结果指示所述候选像素点满足所述阴影扩散条件的情况下，根据所述候选像素点的位置、以及所述阴影起始点的位置，确定所本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种软阴影渲染方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据待渲染对象对应的初始阴影掩膜和光线方向、当前扩散起点对应的位置和候选像素点对应的位置，确定所述候选像素点对应的扩散分析结果，包括：

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据所述当前扩散起点对应的位置、所述候选像素点对应的位置、以及所述光线方向，确定所述候选像素点对应的位置分析结果，包括：

4.根据权利要求1至3中任意一项所述的方法，其特征在于，所述候选像素点对应的初始像素值包括：所述候选像素点在YUV色彩空间内对应的初始亮度值，所述阴影扩散条件包括：...

【技术特征摘要】

1.一种软阴影渲染方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据待渲染对象对应的初始阴影掩膜和光线方向、当前扩散起点对应的位置和候选像素点对应的位置，确定所述候选像素点对应的扩散分析结果，包括：

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据所述当前扩散起点对应的位置、所述候选像素点对应的位置、以及所述光线方向，确定所述候选像素点对应的位置分析结果，包括：

4.根据权利要求1至3中任意一项所述的方法，其特征在于，所述候选像素点对应的初始像素值包括：所述候选像素点在yuv色彩空间内对应的初始亮度值，所述阴影扩散条件包括：所述候选像素点对应的初始亮度值与所述当前扩散起点在yuv色彩空间内对应的亮度值之间的差值小于或等于预设阈值，且所述候选像素点位于所述初始阴影掩膜的非阴影区域内。

5.根据权利要求1至3中任意一项所述的方法，其特征在于，所述在所述扩散分析结果指示所述候选像素点满足所述阴影扩散...

【专利技术属性】
技术研发人员：仝方遒，田志民，翟天辰，杨惠，
申请(专利权)人：集创北方深圳科技有限公司，
类型：发明
国别省市：