【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
专利
公开了一种用于下流式催化加氢处理反应器的多区过滤装置。过滤装置可用于石油和化学加工工业中以在高温和高压下,在氢气的存在下对含烃原料进行催化反应,以从去往反应器催化剂床的混合气体和液体进料流中去除污染物。
技术介绍
0、专利技术背景
1、在固定床加氢处理反应器中,气体和液体反应物(例如,氢气和含烃原料)向下流过一个或多个固体催化剂床。(参见例如penick的美国专利号4,597,854)。当反应物向下流过反应器催化剂床时,反应物接触催化剂材料并且发生反应,以产生期望的产物。反应器进料流还可包含污垢和污染物,从而导致不想要的沉淀物,包括形成有机沉淀物,诸如胶质。
2、液体进料流中携带的污垢会导致在反应器中的顶部分配盘上和在催化剂床中结垢,从而导致不想要的压降增加,这限制了反应器的性能。会带来不期望的问题,包括较短的运行长度、计划外停机、未使用的催化剂活性、催化剂床中不均匀的液体分布、催化剂床中的热点形成以及增加的维护,诸如分配盘清洁。缓解此类问题的解决方案包括安装进料过滤器、床分级以及在一些情况下在顶部分
...【技术保护点】
1.一种用于在下流式催化加氢处理反应器中从液体进料流中去除污染物的多区过滤装置,所述过滤装置包括第一过滤区和第二过滤区;
2.如权利要求1所述的过滤装置,其中所述装置是有一个第一区位于一个第二区的顶部并与所述第二区相邻的双区过滤装置,并且其中所述装置被配置为当安装在下流式反应器中时在操作期间供液体流穿过所述第一区,接着供液体和气体流穿过所述第二区。
3.如权利要求1或2所述的过滤装置,其中所述第一区底板用作所述第二区顶盖,或者所述第二区顶盖用作所述第一区底板。
4.如权利要求1至3中任一项所述的过滤装置,其中第一区孔和第二区孔围绕与
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种用于在下流式催化加氢处理反应器中从液体进料流中去除污染物的多区过滤装置,所述过滤装置包括第一过滤区和第二过滤区;
2.如权利要求1所述的过滤装置,其中所述装置是有一个第一区位于一个第二区的顶部并与所述第二区相邻的双区过滤装置,并且其中所述装置被配置为当安装在下流式反应器中时在操作期间供液体流穿过所述第一区,接着供液体和气体流穿过所述第二区。
3.如权利要求1或2所述的过滤装置,其中所述第一区底板用作所述第二区顶盖,或者所述第二区顶盖用作所述第一区底板。
4.如权利要求1至3中任一项所述的过滤装置,其中第一区孔和第二区孔围绕与所述第一区和所述第二区中相同的垂直轴线中心地定位,并且当安装在下流式反应器中时被对准以提供穿过所述过滤装置的人孔反应器通道。
5.如权利要求1至4中任一项所述的过滤装置,其中所述第一区包括底板孔防护屏障。
6.如权利要求1至5中任一项所述的过滤装置,其中所述第一区防护屏障、所述第一区孔防护屏障和/或所述第二区孔防护屏障是可透过液体的。
7.如权利要求1至6中任一项所述的过滤装置,其中所述装置以及所述顶盖、所述底板和所述分离器中的每一个是大体圆形的尺寸,并且大小被设计成水平地装配在下流式反应器的顶部空间内。
8.如权利要求1至7中任一项所述的过滤装置,其中所述第一区具有比所述第二区更小的面积尺寸,以限定围绕所述第一区的周边的第一区出口区域,当安装在下流式反应器中时,在操作期间,进料流液体通过所述第一区防护屏障向外流动穿过所述第一区出口区域。
9.如权利要求1至8中任一项所述的过滤装置,其中所述第二区顶盖具有比所述第二区底板更小的面积尺寸,以限定围绕所述第二区的周边的第二区入口区域,当安装在下流式反应器中时,在操作期间,进料流液体和气体通过所述第二区入口区域进入所述第二区并且向内朝向所述第二区底板孔流动。
10.如权利要求1至9中任一项所述的过滤装置,其中所述第一区和/或第二区顶盖、底板或分离器中的一个或多个包括多个部段,所述多个部段一起形成相应的顶盖、底板或分离器,使得所述部段可通过反应器内部通道位置放置在下流式反应器内或从所述下流式反应器中移除。
11.如权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员:S·X·宋,M·D·珀兰德,M·D·弗梅尔,T·D·埃文斯,D·卡舍瓦罗夫,J·弗兰斯,
申请(专利权)人:雪佛龙美国公司,
类型:发明
国别省市:
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