一种高硬度高耐磨离型膜及其制备方法技术

本发明专利技术提供了一种高硬度高耐磨离型膜及其制备方法，由聚氨酯丙烯酸酯PUA和纳米增强粒子SiO₂或Al₂O₃组成，其中SiO₂含量28%‑32%时硬度≥5H、耐磨损失≤0.8mg/1000次，Al₂O₃含量38%‑42%时硬度≥6H、耐磨损失≤0.5mg/1000次。其制备方法包括：50℃预分散PUA与纳米粒子（800‑1200rpm，30‑45min），真空脱泡（‑0.08~‑0.10MPa，65‑75℃），涂布于电晕处理PET基材（涂布精度≤±1.5μm），氮气氛围下梯度紫外固化，分三阶段调节波长320‑385nm和强度80‑220mW/cm²，最后90℃热风后固化25‑35min。优选SiO₂体系涂布10‑15μm、固化能量28H+220mJ/cm²，Al₂O₃体系涂布8‑12μm、固化能量32H+280mJ/cm²。本发明专利技术可以提升了离型膜的硬度和耐磨性，保持优异的光泽度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及功能性薄膜材料，更具体地，本专利技术涉及一种高硬度高耐磨离型膜及其制备方法。

技术介绍

1、在当今的材料科学领域，离型膜作为一种重要的功能性薄膜材料，广泛应用于电子、光学、包装等多个行业。离型膜的主要作用是在加工过程中防止材料粘附，从而确保产品的表面质量和加工效率。传统的离型膜通常采用聚硅氧烷等材料制备，虽然具有一定的离型性能，但在硬度和耐磨性方面存在明显不足。随着现代工业对材料性能要求的不断提高，尤其是在高端电子设备制造和高精度光学元件加工等领域，对离型膜的硬度和耐磨性能提出了更高的要求。现有的离型膜技术虽然在一定程度上能够满足基本的使用需求，但在面对高硬度、高耐磨等特殊要求时，往往表现出硬度不够、耐磨性能差等问题，限制了其在高端领域的应用。

2、在实现本专利技术实施例过程中，专利技术人发现现有技术中至少存在如下问题或缺陷：现有的离型膜在硬度和耐磨性方面无法同时满足高要求，尤其是在高硬度和高耐磨性能的平衡上存在明显不足。此外，传统离型膜的制备工艺复杂，生产效率低，且难以实现纳米级增强粒子的均匀分散，导致离型膜的性能均匀性和稳定性本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种高硬度高耐磨离型膜，其特征在于，所述离型膜由聚氨酯丙烯酸酯PUA和纳米增强粒子组成，所述纳米增强粒子选自二氧化硅SiO2或氧化铝Al2O3；

2.根据权利要求1所述的离型膜，其特征在于，当所述纳米增强粒子为SiO2时，所述离型膜的组分为：PUA：69%～71%，SiO2：29%～31%，紫外固化峰值波长365nm，固化能量密度350～400mJ/cm²，湿膜涂布厚度10～15μm，固化后表面光泽度≥90GU。

3.根据权利要求1所述的离型膜，其特征在于，当所述纳米增强粒子为Al2O3时，所述离型膜的组分为：PUA：59%～61%，Al2O3：39%～41%...

【技术特征摘要】

1.一种高硬度高耐磨离型膜，其特征在于，所述离型膜由聚氨酯丙烯酸酯pua和纳米增强粒子组成，所述纳米增强粒子选自二氧化硅sio2或氧化铝al2o3；

2.根据权利要求1所述的离型膜，其特征在于，当所述纳米增强粒子为sio2时，所述离型膜的组分为：pua：69%～71%，sio2：29%～31%，紫外固化峰值波长365nm，固化能量密度350～400mj/cm²，湿膜涂布厚度10～15μm，固化后表面光泽度≥90gu。

3.根据权利要求1所述的离型膜，其特征在于，当所述纳米增强粒子为al2o3时，所述离型膜的组分为：pua：59%～61%，al2o3：39%～41%，紫外固化峰值波长385nm，固化能量密度450～500mj/cm²，湿膜涂布厚度8～12μm，固化后表面光泽度≥95gu。

4.一种高硬度高耐磨离型膜的制备方法，采用权利要求1至3所述的离型膜，其特征在于，包括以下步骤：

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【专利技术属性】
技术研发人员：王智鹏，
申请(专利权)人：江苏吉腾新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：