【技术实现步骤摘要】
本技术涉及研磨液供应,具体涉及一种研磨液供应设备柜。
技术介绍
1、化学机械研磨(cmp)作为芯片加工中的一道必不可少的工序,不仅在晶圆制备阶段采用,在晶圆加工工艺过程中也被用于晶圆表面整体平整化工艺。研磨液供应时通过研磨液供应设备柜实现,通常研磨液供应柜采用不锈钢制作骨架,骨架外侧安装pp板材,现有技术如公开号为cn219925709u的专利文献公开的研磨液供应设备,柜体内设置原液桶、混配系统、电控模块,原液桶、混配系统、电控模块分别放置在柜体的三个腔室空间内,每个腔室分别配置有柜门,柜门采用pp板(聚丙烯板)制作通过合页等铰链结构安装在柜体上,对应混配系统、原液桶的柜门相对较为宽敞,因此柜门也相对较大,柜门开启时对空间要求相对较大,而对于用户而言现场空间可能相对有限,现有的研磨液供应设备柜开启时不方便,且由于柜体内可能处于负压状态,增加了开启的难度。
技术实现思路
1、为了解决上述技术问题,本技术提供了一种研磨液供应设备柜,采用平移式柜门,降低对柜体外部空间的要求的同时方便柜门开启。<
...【技术保护点】
1.一种研磨液供应设备柜,其特征在于,包括柜体,所述柜体内设置挡板,所述挡板在柜体内分隔形成分别用以原液桶、混配系统、电控模块容置的原液室、混配室和电控室,对应原液室、混配室和电控室分别设置第一柜门、第二柜门和第三柜门,所述第一柜门、第二柜门中的至少一个采用平移式柜门;所述原液室和电控室位于柜体同一侧,所述混配室位于柜体的另外一侧。
2.根据权利要求1所述的一种研磨液供应设备柜,其特征在于,柜体对应平移式柜门设置门洞,所述平移式柜门包括设置在柜体内并沿门洞上下位置分布的轨道、安装在上下分布的轨道之间的门板,所述轨道具有两个平行设置的导向槽,每个所述导向槽内
...【技术特征摘要】
1.一种研磨液供应设备柜,其特征在于,包括柜体,所述柜体内设置挡板,所述挡板在柜体内分隔形成分别用以原液桶、混配系统、电控模块容置的原液室、混配室和电控室,对应原液室、混配室和电控室分别设置第一柜门、第二柜门和第三柜门,所述第一柜门、第二柜门中的至少一个采用平移式柜门;所述原液室和电控室位于柜体同一侧,所述混配室位于柜体的另外一侧。
2.根据权利要求1所述的一种研磨液供应设备柜,其特征在于,柜体对应平移式柜门设置门洞,所述平移式柜门包括设置在柜体内并沿门洞上下位置分布的轨道、安装在上下分布的轨道之间的门板,所述轨道具有两个平行设置的导向槽,每个所述导向槽内分别安装有一块门板,所述门板的上下两端分别插入轨道的导向槽内。
3.根据权利要求2所述的一种研磨液供应设备柜,其特征在于,所述门板包括中间段和设置在中间段上下两端的滑动端头,所述中间段的厚度大于导向槽的宽度,所述滑动端头配合插入导向槽内。
4.根据权利要求3所述的一种...
【专利技术属性】
技术研发人员:戴红俭,骆晓庆,
申请(专利权)人:上海亿鼎电子系统集成有限公司,
类型:新型
国别省市:
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