一种CoMoO4/BiVO4纳米材料、制备方法及应用技术

技术编号:45615139 阅读:21 留言:0更新日期:2025-06-24 18:44
本发明专利技术公开了一种CoMoO<subgt;4</subgt;/BiVO<subgt;4</subgt;纳米材料、制备方法及应用,本发明专利技术通过以CoMoO<subgt;4</subgt;和BiVO<subgt;4</subgt;为原料,通过将两者以一定质量混合后经水热反应、煅烧处理成功地制备了CoMoO<subgt;4</subgt;/BiVO<subgt;4</subgt;纳米材料。将该CoMoO<subgt;4</subgt;/BiVO<subgt;4</subgt;纳米材料作为光催化剂用于降解抗生素废水中的盐酸左氧氟沙星时,表现出优异的可见光吸收性能和光催化氧化活性,故可将其用于光催化降解盐酸左氧氟沙星污染物。另本发明专利技术制备方法具有工艺简单、易于操作、原料易得等特点,适于工业化生产推广。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于纳米材料合成,特别涉及一种comoo4/bivo4纳米材料、制备方法及应用。


技术介绍

1、抗生素废水是一种常见的水体污染来源,其主要来源医院、制药工厂以及畜牧业养殖场等地,这些废水中含有大量的抗生素残留以及产生的代谢产物,导致自然水体中抗生素浓度过高。由于动物对抗生素的吸收能力较弱,抗生素的广泛应用导致其在废水、淡水和海水中残留释放和积累,从而迁移到食物链中,对水体生态系统和人类健康造成潜在危害。因此,设计快速有效方法来高效处理被抗生素污染的废水被认为是必不可少的。

2、光催化降解是目前对抗抗生素且对净化环境处理的新型技术之一。为了获得环境友好的功能材料来对抗残留的抗生素污染,科学家们已经开始利用半导体进行光催化实验,且半导体光催化技术应用于降解水中抗生素已被证明是一种很有前途的技术。

3、半导体光催化技术的关键是构建一种高效、稳定的光催化剂。迄今为止,已经报道了各种光催化剂,如tio2、ag2moo4、bi2wo6、mos2、c3n4、bivo4和wo3。其中,铋基材料bivo4因其具有诸如窄带隙(2.4ev)、可本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种CoMoO4/BiVO4纳米材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:将CoMoO4纳米颗粒与BiVO4纳米材料混合,进行水热反应,然后将反应产物经纯化后进行煅烧处理,得到CoMoO4/BiVO4纳米材料。

2.根据权利要求1所述的CoMoO4/BiVO4纳米材料的制备方法,其特征在于,所述CoMoO4纳米颗粒的制备步骤包括:将Co(NO3)2·6H2O和Na2MoO4分别溶于去离子水,得到Co(NO3)2溶液和Na2MoO4溶液;将Co(NO3)2溶液和Na2MoO4溶液混合,然后转移到高压釜中进行反应,反应结束后自然冷却至室温,过滤下层沉淀物,洗涤,干燥,研磨成粉...

【技术特征摘要】

1.一种comoo4/bivo4纳米材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:将comoo4纳米颗粒与bivo4纳米材料混合,进行水热反应,然后将反应产物经纯化后进行煅烧处理,得到comoo4/bivo4纳米材料。

2.根据权利要求1所述的comoo4/bivo4纳米材料的制备方法,其特征在于,所述comoo4纳米颗粒的制备步骤包括:将co(no3)2·6h2o和na2moo4分别溶于去离子水,得到co(no3)2溶液和na2moo4溶液;将co(no3)2溶液和na2moo4溶液混合,然后转移到高压釜中进行反应,反应结束后自然冷却至室温,过滤下层沉淀物,洗涤,干燥,研磨成粉,置于马弗炉中进行煅烧,得到comoo4纳米颗粒;所述co(no3)2·6h2o和na2moo4的摩尔比为1:1-1.2。

3.根据权利要求2所述的comoo4/bivo4纳米材料的制备方法,其特征在于,所述反应温度为120-180℃,反应时间为3-8h。

4.根据权利要求2所述的comoo4/bivo4纳米材料的制备方法,其特征在于,所述煅烧处理的条件为:升温速率为2-6℃/min,煅烧温度为200-500℃,煅烧时间为0.5-3h。

【专利技术属性】
技术研发人员:刘磊郭艳杰葛奕彤张蓓蓓李庆
申请(专利权)人:大连医科大学
类型:发明
国别省市:

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