基板处理装置、基板处理方法以及物品制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供基板处理装置、基板处理方法以及物品制造方法，提供对涂敷有多种溶剂基板的干燥处理有利的技术。基板处理装置具备：气密容器，向内部搬送涂敷有饱和蒸气压力互不相同的多种溶剂的基板；减压机构，对上述气密容器的内部进行减压；控制部，在使上述减压机构对上述气密容器的内部进行了减压的减压环境下能执行使涂敷于配置在上述气密容器的内部的上述基板的上述多种溶剂蒸发的干燥处理。上述控制部构成为在上述干燥处理中独立地控制被导入到上述气密容器的内部的第1气体的流量以及被导入到上述气密容器的内部且分子量比上述第1气体小的第2气体的流量。上述第1气体以及上述第2气体在25℃以及1个气压的环境下都作为气体存在。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及处理基板的技术。

技术介绍

1、在制造具有作为有机el(electro luminescence即电致发光)元件的oled(organic light emitting diode即有机发光二极管)的面板(有机el面板)等物品时，已知有例如使用喷射装置向基板上的所期望的部位涂敷溶剂膜或溶液膜的方法。溶剂膜是由溶剂构成的膜，溶液膜是由包含溶质和溶剂的溶液构成的膜。通过使在基板上涂敷了溶剂的基板的表面干燥，进行基板处理。另外，使通过在基板上涂敷溶液而构成的溶液膜干燥，由此进行形成溶质的膜(层)的基板处理。在溶液膜的干燥中使用作为基板处理装置的减压干燥装置。

2、在专利文献1中公开了以下构成：在基板处理中，向基板的周围供给包含与溶液膜所含的溶剂相同的溶剂蒸气的气体，由此控制溶液膜的干燥速度。

3、在先技术文献

4、专利文献

5、专利文献1：日本特开2006－185939号公报

技术实现思路

1、专利技术所要解决的课题

2、涂敷在基板上的溶剂或者涂本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基板处理装置，其特征在于，

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

3.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

4.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

5.如权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

6.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

7.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

8.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

9.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

10.如权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，...

【技术特征摘要】

1.一种基板处理装置，其特征在于，

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

3.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

4.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

5.如权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

6.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

7.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

8.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

9.如权利要求1所述的基板...

【专利技术属性】
技术研发人员：滨口航平，村上泰夫，栢野道明，岸本克史，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：