【技术实现步骤摘要】
本技术涉及硅料清洗，具体地说，涉及一种硅原料清洗设备。
技术介绍
1、在生产硅料的过程中要对硅棒或硅锭进行切方处理剩下的叫边料；因硅料是可以再生利用，所以对切下的边料进行清洗、回收利用。
2、边料表面在加工过程中残留了切割液、金属离子、指纹和附带杂质等，需要被清洗处理，现在常用的边料自动清洗设备使用强酸对边料表面的杂质进行去除，然后再对边料进行清洁，但现有的自动清洗设备，在对边料去除杂质时，大多使用浸泡方式，如若边料数量过多，密度过小，会造成内部的边料无法有效的去除杂质，会影响到后续的使用。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种硅原料清洗设备，以解决现有的自动清洗设备，在对边料去除杂质时，大多使用浸泡方式，如若边料数量过多，密度过小，会造成内部的边料无法有效的去除杂质，影响到后续的使用的问题。
2、为实现上述目的，提供了一种硅原料清洗设备，包括清洗台，清洗台底端设置有清洗箱，清洗箱通过隔板分为酸洗室和水浴室，酸洗室和水浴室底端均设置有阀门，清洗台顶端对称固接有...
【技术保护点】
1.一种硅原料清洗设备，其特征在于：包括清洗台(1)，所述清洗台(1)底端设置有清洗箱(2)，所述清洗箱(2)通过隔板分为酸洗室(3)和水浴室(4)，所述酸洗室(3)和水浴室(4)底端均设置有阀门(5)；
2.根据权利要求1所述的硅原料清洗设备，其特征在于：一对所述固定板(6)均开设有用于横板(7)上下移动的滑槽(10)，所述滑槽(10)内部滑动连接有滑块(11)，所述横板(7)一端固接在其中一个滑块(11)外侧上，所述横板(7)另端贯穿另个滑块(11)且延伸至固定板(6)外侧，所述清洗台(1)顶端固接有电动推杆(12)，所述电动推杆(12)输出端固接在位...
【技术特征摘要】
1.一种硅原料清洗设备，其特征在于：包括清洗台(1)，所述清洗台(1)底端设置有清洗箱(2)，所述清洗箱(2)通过隔板分为酸洗室(3)和水浴室(4)，所述酸洗室(3)和水浴室(4)底端均设置有阀门(5)；
2.根据权利要求1所述的硅原料清洗设备，其特征在于：一对所述固定板(6)均开设有用于横板(7)上下移动的滑槽(10)，所述滑槽(10)内部滑动连接有滑块(11)，所述横板(7)一端固接在其中一个滑块(11)外侧上，所述横板(7)另端贯穿另个滑块(11)且延伸至固定板(6)外侧，所述清洗台(1)顶端固接有电动推杆(12)，所述电动推杆(12)输出端固接在位于固定板(6)外侧的横板(7)底端上。
3.根据权利要求2所述的硅原料清洗设备，其特征在于：所述横板(7)顶端开设有凹槽(13)，所述凹槽(13)内部对称转动连接有一对往复丝杆(14)，一对所述往复丝杆(14)外侧螺母副连接有移动块(15)，一对所述往复丝杆(14)一端延伸至横板(7)一外侧且固接有第一链轮(16)，一对所述第一链轮(16)通过第一链条(17)传动连接，所述横板(7)...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈成勋，种光耀，
申请(专利权)人：苏州柏越纳米科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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