光学薄膜、折射率可调膜层的制备方法及光学元件技术

技术编号:45565352 阅读:26 留言:0更新日期:2025-06-17 18:32
本申请公开了一种光学薄膜、折射率可调膜层的制备方法及光学元件。该方法包括:在基材上提供一种单体或者单体的化合物;使所述单体或者单体的化合物与至少两种气体发生化学反应以在所述基材上生成目标膜层,其中,在所述化学反应过程中通过调配所述至少两种气体的流量比例,在所述基材上生成折射率可调控的所述目标膜层。本申请可以通过一次制备工序获得折射率可调控的膜层,从而可以灵活地制备具有指定折射率的材料,在制备采用高折射率膜层与低折射率膜层交替堆叠设计的光学薄膜时,可以仅通过单体或者单体的化合物作为原料来制备完整的光学薄膜,工艺简单,流程少,有利于降低成本,提高制造效率。

【技术实现步骤摘要】

本申请的实施方式涉及光学镀膜,尤其涉及一种光学薄膜、折射率可调膜层的制备方法及光学元件


技术介绍

1、光学镀膜是光学加工中常用的技术。目前光学镀膜中使用的膜料均为具有固定折射率的材料,根据光学镀膜理论的设计原理,膜系的设计和加工过程中必然会涉及到多种膜料的使用。因此现有的光学镀膜方法在制备光学薄膜时存在着以下问题:

2、1、光学薄膜采用高折射率膜层与低折射率膜层交替堆叠的设计,同一膜系中涉及到多种膜料的搭配使用,工艺复杂,流程多,成本高;

3、2、材料的特性限制了折射率的可选性,无法灵活地制备指定折射率的材料。


技术实现思路

1、本申请的实施方式提供的光学薄膜、折射率可调膜层的制备方法及光学元件,可解决或部分解决现有技术中的上述不足或现有技术中的其他不足。

2、根据本申请第一方面提供一种光学薄膜,所述光学薄膜包括至少一种单体或单体化合物和至少两种气体元素,通过一次工序制备而成。

3、在本申请的一个实施方式中,所述光学薄膜通过调配所述至少两种气体元素在所述一次工本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种光学薄膜,其特征在于,所述光学薄膜包括至少一种单体或单体化合物和至少两种气体元素,通过一次工序制备而成。

2.根据权利要求1所述的光学薄膜,其特征在于,所述光学薄膜通过调配所述至少两种气体元素在所述一次工序中的流量比例可调控所述光学薄膜的折射率。

3.根据权利要求1所述的光学薄膜,其特征在于,所述单体包括铝、硼、硅单体中的一种或者铝、硼、硅的复合物中的一种。

4.根据权利要求2所述的光学薄膜,其特征在于,所述光学薄膜的折射率在1.65~1.98范围内可调控。

5.根据权利要求1所述的光学薄膜,其特征在于,所述光学薄膜包括AlOxNy...

【技术特征摘要】

1.一种光学薄膜,其特征在于,所述光学薄膜包括至少一种单体或单体化合物和至少两种气体元素,通过一次工序制备而成。

2.根据权利要求1所述的光学薄膜,其特征在于,所述光学薄膜通过调配所述至少两种气体元素在所述一次工序中的流量比例可调控所述光学薄膜的折射率。

3.根据权利要求1所述的光学薄膜,其特征在于,所述单体包括铝、硼、硅单体中的一种或者铝、硼、硅的复合物中的一种。

4.根据权利要求2所述的光学薄膜,其特征在于,所述光学薄膜的折射率在1.65~1.98范围内可调控。

5.根据权利要求1所述的光学薄膜,其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员:石枭姚峥峥夏天益赵国华
申请(专利权)人:宁波舜宇车载光学技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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