一种二维红磷纳米片、其制备及包含其的三阶非线性光学调制器制造技术

技术编号:45560903 阅读:9 留言:0更新日期:2025-06-17 18:29
本发明专利技术公开一种二维红磷纳米片、其制备及包含其的三阶非线性光学调制器。所述制备方法包括以下步骤:将卤化磷溶解在低沸点溶剂中,加入左旋抗坏血酸,混合均匀后在20‑50℃下利用真空除去低沸点溶剂,得到前驱体;在惰性气氛下,对前驱体进行加热,以使前驱体在界面处发生热解反应,经冷却、洗涤、冻干后得到二维红磷粉末。采用该制备方法可以在较低温度下大量制备片层厚度较薄的二维红磷纳米片,操作简便、合成周期短。利用得到的二维红磷纳米片用来制备三阶非线性光学调制器,具有明显的溶剂依赖效应,可实现在饱和吸收与反饱和吸收间的调制。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及材料学和非线性光学领域。更具体地,涉及一种二维红磷纳米片、其制备及包含其的三阶非线性光学调制器


技术介绍

1、随着2004年石墨烯的发现,二维材料便成为研究的热点。从那时起,已经发现了数千种二维材料,如六方氮化硼、石墨烯、硅烯和硼烯等,其中,红磷由于其优异的光学和化学性能,在许多领域引起了越来越多的关注。与同素异形体黑磷相比,商业非晶红磷成本低且无毒,有助于其在大规模生产和实际应用中的广泛应用,如阻燃剂、半导体掺杂剂和生物治疗。更重要的是,红磷具有较强可见光响应和可调带宽度(1.5-2.4ev),使其十分适用于光学调制。红磷可分为两种类型:结晶型和非晶型。无定形红磷是一种链状线性聚合物,通过分子间作用力在空间中无序排列。当在一个方向上的生长受到限制时,容易形成二维非层状材料。目前报道过红磷的制备方法,有软模板法、溶剂热法、热解法、超声法等,但是目前现有的公开技术有各自的缺陷,如软模板法的产率较低,热解法的能耗高,以及超声法的二维红磷厚度较厚,急需开发一种合成产率高、反应温度低、品质较高的新的合成方法用来制备二维红磷。p>

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【技术保护点】

1.一种二维红磷纳米片的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述卤化磷选自三溴化磷和/或三碘化磷;

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述卤化磷和左旋抗坏血酸的质量比为1:20-80。

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述低沸点溶剂选自环己烷、正己烷、正庚烷和石油醚中的一种或多种。

5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述加热的条件为加热温度为50-90℃,加热时间为10-60min。

6.一种二维红磷纳米片,其特征在于,采用如权利要求1-5任一...

【技术特征摘要】

1.一种二维红磷纳米片的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述卤化磷选自三溴化磷和/或三碘化磷;

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述卤化磷和左旋抗坏血酸的质量比为1:20-80。

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述低沸点溶剂选自环己烷、正己烷、正庚烷和石油醚中的一种或多种。

5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述加热的条件为加热温度为50-90℃,加热时间为10-60min。

6.一种二维红磷纳米片,其特征在于,采用如权利要求1-5任一项...

【专利技术属性】
技术研发人员:谢政王晶京李云飞吴萃瑜董学哲刘福来陈勇张海龙张晗
申请(专利权)人:中国科学院理化技术研究所
类型:发明
国别省市:

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