等离子抛光设备制造技术

技术编号:45545772 阅读:7 留言:0更新日期:2025-06-17 18:19
本技术公开了等离子抛光设备,涉及金属抛光设备技术领域,包括机壳,机壳设置有反应腔、溶剂腔和电器腔,溶剂腔设置有至少一组抛光液槽,抛光液槽通过管道与反应腔连通;挂架升降机构,包括挂架组件和设置于电器腔的升降组件;pH探头机构,设置于电器腔内并伸入反应腔内;开门机构,滑动连接于反应腔的开口处。根据本技术的等离子抛光设备,机壳内集成反应腔、溶剂腔和电器腔三部分,电器元件全部安装在电器腔内,工件通过挂架升降机构浸没在反应腔的溶液内,配合pH探头机构和开门机构实现工件的高效抛光操作。整个过程能耗低,安全系数高,并且设备整机小型化制造,能够很好满足小规模生产的需求,有利于市场推广。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及金属抛光设备,特别涉及一种等离子抛光设备


技术介绍

1、电解质等离子抛光是一种高效、环保的金属表面处理技术,它通过在电解质溶液中施加电场,使金属表面与电解质溶液中的等离子体发生反应,从而实现表面的抛光和去除。广泛应用于微电子、光学、半导体等领域,用于改善金属表面的质量和光洁度,提高材料的性能和可靠性。

2、电解质等离子抛光使用的抛光液为低浓度中性盐溶液,相比传统电解抛光中使用的酸性或碱性溶液,其废液更容易处理,减少了对环境的污染。电解质等离子抛光技术在环保、效率、材料消耗、适用性、表面质量和操作简便性等方面相比传统电解抛光具有明显优势。

3、cn202311481979.4公开一种开口筒状体内壁电解质等离子抛光设备及抛光方法,开口筒状体内壁电解质等离子抛光设备具有调整模式,包括:输送装置;电解质等离子抛光装置,包括第一夹持部与阴极棒;模拟电极装置,包括顶面与阴极棒抛光工作时的顶面高度相同的模拟棒;转移装置包括第二夹持部。

4、现有的等离子抛光设备通常建造为大规模生产线使用的大型抛光设备,而大型设备的造价高,占本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种等离子抛光设备,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的等离子抛光设备,其特征在于,所述反应腔(110)对应所述挂架组件(220)升降范围设置有升降槽(111),所述挂架组件(220)从所述电器腔(130)穿过所述升降槽(111)并延伸至所述反应腔(110)的中部上方。

3.根据权利要求2所述的等离子抛光设备,其特征在于,所述挂架组件(220)的底部设置有安装部,固定工件的挂具与所述安装部可拆卸连接;所述控制组件与所述升降组件电连接用于调节所述挂架组件(220)的升降范围。

4.根据权利要求1所述的等离子抛光设备,其特征在于,所述反应腔(1...

【技术特征摘要】

1.一种等离子抛光设备,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的等离子抛光设备,其特征在于,所述反应腔(110)对应所述挂架组件(220)升降范围设置有升降槽(111),所述挂架组件(220)从所述电器腔(130)穿过所述升降槽(111)并延伸至所述反应腔(110)的中部上方。

3.根据权利要求2所述的等离子抛光设备,其特征在于,所述挂架组件(220)的底部设置有安装部,固定工件的挂具与所述安装部可拆卸连接;所述控制组件与所述升降组件电连接用于调节所述挂架组件(220)的升降范围。

4.根据权利要求1所述的等离子抛光设备,其特征在于,所述反应腔(110)分为等待区(112)和反应区(113)上下两层,所述抛光液槽(121)和外部进出水管路分别与所述反应区(113)内连通。

5.根据权利要求4所述的等离子抛光设备,其特征在于,所述反应区(113)内设置有与所述控制组件电连接的加热组件,所述加热组件盘设于所述反应区(113)的底部,用于调节所述反应区(113)的溶液温度。

6.根据权利要求5所述的等...

【专利技术属性】
技术研发人员:谈真高
申请(专利权)人:东莞市八溢自动化设备有限公司
类型:新型
国别省市:

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