【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于显示器件，尤其涉及一种抗闪点ag玻璃及其制备方法。
技术介绍
1、在实现本专利技术的过程中，专利技术人发现现有技术至少存在以下问题：
2、随着显示行业的快速发展，消费者对电子产品的显示要求日益提高。为了应对行业的激烈竞争并推动企业的快速发展，面板厂商开始积极寻求提高面板显示精度的方法。一方面，他们关注显示材料与面板显示方式的改进。传统的lcd屏幕存在拖影严重、边缘偏暗等缺点，已无法满足高端产品对显示质量的要求。随着oled自发光材料的出现，其凭借高对比度、低功耗和轻薄等优势，迅速成为电子产品上主流的显示模式。然而，仅仅依靠材料的改变，对显示面板细腻程度的提升仍然有限。因此，厂商开始尝试提高像素密度(ppi)，即增加同一片区域内的可显示像素数量，从而提升显示效果。另一方面，传统的显示面板外层通常采用普通白玻璃盖板，这种材料容易受外部光线干扰，导致屏幕表面产生眩光，严重影响显示效果。
3、当前制作的oled显示屏的ppi(像素密度,pixels per inch)逐渐增大，现有的ag玻璃放在oled显示...
【技术保护点】
1.一种抗闪点AG玻璃，其特征在于，具有：
2.如权利要求1所述的抗闪点AG玻璃，其特征在于，所述AG盖板通过透明OCA与LED或OLED显示屏贴合；所述微纳颗粒的折射率在1.4～2.5之间，粒径在0.5nm～10um之间；微纳颗粒层厚度在2um～10um之间。
3.如权利要求1或2所述的抗闪点AG玻璃的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：1)玻璃基板处理；2)镀膜层；3)涂布光刻胶；4)曝光；5)显影；6)膜层刻蚀；7)第一步湿法刻蚀玻璃；8)退光刻胶；9)干法刻蚀玻璃；10)退膜层；11)第二步湿法刻蚀玻璃；12)油墨+微纳颗粒制作与丝印；...
【技术特征摘要】
1.一种抗闪点ag玻璃，其特征在于，具有：
2.如权利要求1所述的抗闪点ag玻璃，其特征在于，所述ag盖板通过透明oca与led或oled显示屏贴合；所述微纳颗粒的折射率在1.4～2.5之间，粒径在0.5nm～10um之间；微纳颗粒层厚度在2um～10um之间。
3.如权利要求1或2所述的抗闪点ag玻璃的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：1)玻璃基板处理；2)镀膜层；3)涂布光刻胶；4)曝光；5)显影；6)膜层刻蚀；7)第一步湿法刻蚀玻璃；8)退光刻胶；9)干法刻蚀玻璃；10)退膜层；11)第二步湿法刻蚀玻璃；12)油墨+微纳颗粒制作与丝印；13)将丝印后的ag玻璃与lcd或oled屏通过透明oca贴合。
4.如权利要求3所述的抗闪点ag玻璃的制备方法，其特征在于，上述第1)步中，先用去离子水进行初步冲洗，配合软刷或超声波手段去除基板表面的灰尘和有机杂质；也可以加入低浓度清洗剂或溶剂进行脱脂、去油处理；处理的温度范围为20-100℃，处理时间为1-10min。
5.如权利要求4所述的抗闪点ag玻璃的制备方法，其特征在于，上述第2)步中，膜层的材料包括ito、cr、mo、sio2和si3n4；膜层的厚度在范围内；膜层的制备方法包括但不限于物理气相沉积、化学气相沉积以及溅射镀膜；各膜层的参数如下：对于ito，使用氩气进行沉积，气体流量：320-400sccm，真空度控制在0.5pa，镀膜温度范围为150-300℃，功率为6-8kw，气体供给比例为1:0.3；对于cr膜层，使用氩气进行沉积，流量320-400sccm，真空度保持在0.5pa，温度范围为200-300℃，功率设定为5-15kw，气体比例为1:0；mo膜层的制备则需在0.65pa的真空度、350-600sccm的ar气体流量以及10-40sccm的o2气体流量下进行，温度控制在150-200℃，功率为6-12kw；对于sio2膜层，采用ar气，气体流量为100-180sccm，真空度为0.5pa，镀膜温度范围为200-300℃，功率为10-20kw；对于si3n4，制备过程中需通入200-320sccm的n2气和100-150sccm的ar气，真空度为0.6pa，温度范围为200-300℃，功率为20-45kw，气体比例在25～60sccm。
6.如权利要求5所述的抗闪点ag玻璃的制备方法，其特征在于，上述第3)步中，光刻胶的选择根据实际工艺需求，采用正性或负性光刻胶材料；正性光刻胶在曝光区域溶解度增加，显影后被去除；负性光刻胶则相...
【专利技术属性】
技术研发人员：郑建军，吴昊，陈润，叶玉超，余志辉，钟素文，
申请(专利权)人：芜湖长信科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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