【技术实现步骤摘要】
本揭示内容的实施方式大体涉及在处理工具中沉积和测量光学堆叠层。
技术介绍
1、处理工具可包括各种沉积腔室,沉积腔室用于在基板上沉积诸如介电层或膜之类的材料以形成光学堆叠。当形成光学堆叠时,通常尽可能均匀且准确地沉积膜。为了确定膜是否已经被均匀且准确地沉积,将堆叠从沉积腔室中移出以使用外部计量进行测量。然而,利用外部计量组件会使膜暴露于空气,导致膜的性质不当地改变。膜性质的改变可能导致各种错误或缺陷,例如导致膜的表面或界面变质或不均匀。此外,从处理工具环境中移走堆叠以测量膜可能相当耗时,这减少了生产时间并降低了产量。
2、因此,需要一种用于在处理工具内整合可靠、准确和精确的计量的设备和程序,以形成具有均匀层的光学堆叠,并使光学堆叠层内的错误或缺陷最小化。
技术实现思路
1、提供了一种用于形成具有均匀且精确的层的光学堆叠的方法和设备。用于形成所述光学堆叠的处理工具在封闭环境中包括第一移送腔室、机载计量单元和第二移送腔室。第一多个处理腔室耦接至第一移送腔室或第二移送腔室。机载计量单元
...【技术保护点】
1.一种处理工具,包括:
2.如权利要求1所述的处理工具,其中所述机载计量单元包含反射仪和椭偏仪中的一个或多个。
3.如权利要求1所述的处理工具,其中所述一种或多种光学性质选自由以下所组成的群组:厚度、光学反射光谱、光学透射光谱、光学吸收光谱、折射率、区别系数、成分、晶片弯曲度和应力。
4.如权利要求1所述的处理工具,其中耦接到所述第一移送腔室或所述第二移送腔室的所述一个或多个处理腔室中的至少一个处理腔室是化学气相沉积腔室。
5.如权利要求1所述的处理工具,其中耦接到所述第一移送腔室或所述第二移送腔室的所述一个或多个处理
...【技术特征摘要】
1.一种处理工具,包括:
2.如权利要求1所述的处理工具,其中所述机载计量单元包含反射仪和椭偏仪中的一个或多个。
3.如权利要求1所述的处理工具,其中所述一种或多种光学性质选自由以下所组成的群组:厚度、光学反射光谱、光学透射光谱、光学吸收光谱、折射率、区别系数、成分、晶片弯曲度和应力。
4.如权利要求1所述的处理工具,其中耦接到所述第一移送腔室或所述第二移送腔室的所述一个或多个处理腔室中的至少一个处理腔室是化学气相沉积腔室。
5.如权利要求1所述的处理工具,其中耦接到所述第一移送腔室或所述第二移送腔室的所述一个或多个处理腔室中的至少一个处理腔室是物理气相沉积腔室。
6.一种形成光学堆叠的方法,包含:
7.如权利要求6所述的方法,其中所述机载计量单元包括反射仪和椭偏仪中的一个或多个。
8.如权利要求6所述的方法,其中所述一种或...
【专利技术属性】
技术研发人员:朱明伟,杨子浩,奈格·B·帕蒂班德拉,丹尼尔·迪尔,曹勇,曾为民,郑仁婧,爱德华·布迪亚图,S·K·古鲁萨米,托德·伊根,尼兰詹·R·哈斯基瓦莱,
申请(专利权)人:应用材料公司,
类型:发明
国别省市:
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