【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于微纳光学，更具体地，涉及一种基于自旋-角度复用超表面的四通道图像显示设计方法。
技术介绍
1、针对目前纳米印刷图像的显示容量有通过结合自旋复用以扩展信息容量的方法，该方法通常利用亚波长单元结构的几何相位与传输相位的结合以实现对入射左旋圆偏振光和入射右旋圆偏振光的不同相位调控，从而达到切换入射光圆偏振态进而切换纳米印刷图像的效果。以及将亚波长单元结构优化为半波片，结合起偏器、检偏器，从而达到旋转超表面调节出射光强度分布以实现纳米印刷图像切换的效果。这些方案都受到调控自由度的限制，最多只能编码两幅纳米印刷图像，使得纳米印刷图像的显示容量难以提升。
技术实现思路
1、针对现有方案的不足，本专利技术基于余弦型相位的贝塞尔展开特性与亚波长单元结构的几何相位和传输相位特性提出了一种基于自旋-角度复用超表面的四通道图像显示设计方法，该方法利用贝塞尔展开后的出射光角度复用特性与亚波长单元结构的自旋复用特性，从理论上证明了实现四幅像全息纳米印刷图像的可行性，并把两幅连续灰度像全息纳米印刷图像和...
【技术保护点】
1.一种基于自旋-角度复用超表面的四通道图像显示设计方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述一种基于自旋-角度复用超表面的四通道图像显示设计方法，其特征在于，所述方法还包括：
3.根据权利要求1所述一种基于自旋-角度复用超表面的四通道图像显示设计方法，其特征在于，所述单元结构对入射圆偏光附加几何相位与传输相位，还包括：
4.根据权利要求2所述一种基于自旋-角度复用超表面的四通道图像显示设计方法，其特征在于，不同角度出射光的强度分布如下：
5.根据权利要求4所述一种基于自旋-角度复用超表面的四通道图像显示设计方法，...
【技术特征摘要】
1.一种基于自旋-角度复用超表面的四通道图像显示设计方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述一种基于自旋-角度复用超表面的四通道图像显示设计方法，其特征在于，所述方法还包括：
3.根据权利要求1所述一种基于自旋-角度复用超表面的四通道图像显示设计方法，其特征在于，所述单元结构对入射圆偏光附加几何相位与传输相位，还包括：
4.根据权利要求2所述一种基于自旋-角度复用超表面的四通道图像显示设计方法，其特征在于，不同角度出射光的强度分布如下：
5.根据权利要求4所述一种基于自旋-角度复用超表面的四通道图...
【专利技术属性】
技术研发人员：胡冬煜，郑国兴，李子乐，汪嘉豪，黄志伟，黄天，陈晶，曾永全，
申请(专利权)人：武汉大学，
类型：发明
国别省市：
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