基于PMMA改性保护层的高韧性偏光片及其制备方法技术

技术编号:45536227 阅读:28 留言:0更新日期:2025-06-13 17:37
本发明专利技术公开了一种基于PMMA改性保护层的高韧性偏光片及其制备方法,该基于PMMA改性保护层的高韧性偏光片从下到上依次包括离型膜层、光学压敏胶层、高韧性PMMA保护膜、偏光基体层、高韧性PMMA保护膜和表面保护膜层;高韧性保护膜采用PMMA与热交联剂混合,并通过旋涂、喷涂或印刷方法制备,经退火处理形成;相比传统的醋酸纤维素(TAC)膜,本发明专利技术采用的PMMA膜具备更高的光学透明性、尺寸稳定性、耐候性及机械强度,且生产成本更低。本发明专利技术的偏光片不仅具有优良的偏光特性和环境耐受性,还能显著提升抗冲击性和柔韧性,适用于液晶显示器(LCD)、柔性显示器、有机发光二极管(OLED)显示器及其他光学显示领域。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及偏光片,尤其涉及一种基于pmma改性保护层的高韧性偏光片及其制备方法。


技术介绍

1、偏光片是现代光学显示设备的重要组成部分,广泛应用于液晶显示器(lcd)、有机发光二极管(oled)显示器、太阳镜、防眩光屏幕以及光学传感等领域。它的主要作用是通过调控光线的偏振方向,提高图像对比度,降低眩光,从而增强显示效果。偏光片的基本结构通常由表面保护膜层,偏光基体层,内保护膜,光学压敏胶层,离型膜层构成,其中偏光基体层是实现光偏振功能的核心部分,而保护层用于提供机械强度、环境稳定性和附加功能。

2、偏光片的工作原理基于光的偏振特性,普通光是非偏振光,其振动方向在传播方向的垂直平面上随机分布。当光线通过偏光层时,其中垂直于偏光轴的光被吸收,而平行于偏光轴的光得以透过,从而实现线性偏振。通常,偏光片中的偏光基体层采用拉伸后的聚乙烯醇(pva)膜,并与偏光染料结合,使分子链沿特定方向排列,形成吸收偏振光的功能。保护层通常使用醋酸纤维素(tac)膜,既能保护偏光层免受机械损伤,又能增强偏光片的整体强度和耐久性。

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【技术保护点】

1.一种基于PMMA改性保护层的高韧性偏光片,其特征在于,所述基于PMMA改性保护层的高韧性偏光片包括:

2.根据权利要求1所述的基于PMMA改性保护层的高韧性偏光片,其特征在于,所述耐高韧性保护膜的材料由PMMA与热交联剂混合配制而成;

3.根据权利要求1所述的基于PMMA改性保护层的高韧性偏光片,其特征在于,所述离型膜层的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚丙烯(PP)或聚酰亚胺(PI)中的一种,厚度范围为20~40 m。

4.根据权利要求1所述的基于PMMA改性保护层的高韧性偏光片,其特征在于,所述光学压敏胶层的材料为丙烯酸酯压敏胶或硅胶类压...

【技术特征摘要】

1.一种基于pmma改性保护层的高韧性偏光片,其特征在于,所述基于pmma改性保护层的高韧性偏光片包括:

2.根据权利要求1所述的基于pmma改性保护层的高韧性偏光片,其特征在于,所述耐高韧性保护膜的材料由pmma与热交联剂混合配制而成;

3.根据权利要求1所述的基于pmma改性保护层的高韧性偏光片,其特征在于,所述离型膜层的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚丙烯(pp)或聚酰亚胺(pi)中的一种,厚度范围为20~40 m。

4.根据权利要求1所述的基于pmma改性保护层的高韧性偏光片,其特征在于,所述光学压敏胶层的材料为丙烯酸酯压敏胶或硅胶类压敏胶的一种,厚度范围为10~50 m。

5.根据权利要求1所述的基于pmma改性保护层的高韧性偏光片,其特征在于,所述偏光基体层的材料为聚乙烯醇(pva),厚度范围为30~60 m。

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【专利技术属性】
技术研发人员:于军胜尹可杰唐宇盛葛鑫韩世蛟
申请(专利权)人:电子科技大学
类型:发明
国别省市:

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