【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于海洋石油工程,具体涉及一种水下控制系统压力补偿装置及其使用方法。
技术介绍
1、水下控制模块在水下工作时筒体会受到海水的压力作用,并且水下控制模块应用水深会逐渐增大,如果水下控制模块(scm)筒体直接采用耐压壳体,随着水深的增加,筒体的厚度会逐渐增加,而且需要设计筋板等结构,整体尺寸较大而且结构复杂,并存在一定的风险,为了在海水中进行压力补偿,水下控制系统的压力补偿装置应运而生。
2、目前的水下控制系统压力补偿装置,不能在压力补偿时对杂质进行清洁,致使物质堵塞容易进水口,最终影响压力补偿的进行。
技术实现思路
1、针对上述问题,本专利技术的目的是提供一种水下控制系统压力补偿装置及其使用方法,用于解决目前的水下控制系统压力补偿装置,不能在压力补偿时对杂质进行清洁,致使物质堵塞容易进水口,最终影响压力补偿进行的问题。
2、为实现上述目的,本专利技术采取以下技术方案:
3、第一方面,本专利技术公开了一种水下控制系统压力补偿装置,包括
...
【技术保护点】
1.一种水下控制系统压力补偿装置,其特征碍于,包括
2.根据权利要求1所述的水下控制系统压力补偿装置,其特征在于,
3.根据权利要求1所述的水下控制系统压力补偿装置,其特征在于,每个进水口(100)配置有一套杂质清洁机构,两套杂质清洁机构分别设置在所述盖板(10)的两侧的进水口(100)及其对应的补偿器壳体(2)上。
4.根据权利要求1所述的水下控制系统压力补偿装置,其特征在于,
5.根据权利要求4所述的水下控制系统压力补偿装置,其特征在于,
6.根据权利要求5所述的水下控制系统压力补偿装置,其特征在于,
...【技术特征摘要】
1.一种水下控制系统压力补偿装置,其特征碍于,包括
2.根据权利要求1所述的水下控制系统压力补偿装置,其特征在于,
3.根据权利要求1所述的水下控制系统压力补偿装置,其特征在于,每个进水口(100)配置有一套杂质清洁机构,两套杂质清洁机构分别设置在所述盖板(10)的两侧的进水口(100)及其对应的补偿器壳体(2)上。
4.根据权利要求1所述的水下控制系统压力补偿装置,其特征在于,
5.根据权利要求4所述的水下控制系统压力补...
【专利技术属性】
技术研发人员:马强,贾鹏,王双成,韩云峰,张妍,余曦冉,胡洋东,寇程铭,
申请(专利权)人:中海石油中国有限公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。