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一种基于纳米结构的长通截止滤光片制造技术

技术编号:45439712 阅读:17 留言:0更新日期:2025-06-04 19:21
本发明专利技术公开了光学超材料技术领域内的一种基于纳米结构的长通截止滤光片,包括生长在二氧化硅衬底上的圆方柱组交叉阵列,圆方柱组由均布在中央柱四周的四根边圆柱组成;中央柱由上至下采用圆‑方‑方结构组成,顶层圆柱和底层方柱均采用砷化镓材料制成,中层方柱采用二氧化硅材料制成;边圆柱由上至下分为三层,顶层和底层的圆柱均采用砷化镓材料制成,中层的圆柱采用氧化铝材料制成,本发明专利技术实现了在200‑410nm波段的低透射率,在757‑20000nm波段的高透射率,能够精确控制光线波长分布,减少紫外线干扰,提升系统的性能和可靠性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学超材料,特别涉及一种截止滤光片。


技术介绍

1、传统的光学滤波器件通常由多层介电薄膜构成,但难以应对小型化模块化的场景。近年来,超表面由于在微米和纳米级结构上的出色性能而受到广泛关注,例如结构色,光电探测器,传感器等领域有着广泛应用。透射区高透过率,截止突变良好,角敏感度低,易于制备,成本低廉,环境友好的光学滤光片是当今世界相关领域研究的重点热点。超表面光学滤波片基于米氏共振原理,通过材料选择,几何结构,参数设置等方式对光线进行调控,当光波入射到超表面光学滤波器件表面时,根据纳米柱的设计参数,光波将发生反射、透射、吸收等不同的光学响应,从而实现对光波的调控与控制。然而,现有的超表面光学滤波片在特定应用场景下,如需要实现光的完美截止与吸收时,仍面临诸多挑战。

2、在许多应用中,需要在截止带和通带之间有明显的吸收截止。截止效率可表示为消光比erf=10*log(tpass/tstop),其中tpass为通带的最小透过率,tstop为阻带内的最大透过率;消光差edf= tpass-tstop;截止斜率csp =(tpass-tsto本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基于纳米结构的长通截止滤光片,其特征在于,包括生长在二氧化硅衬底上的圆方柱组交叉阵列,所述圆方柱组由均布在中央柱四周的四根边圆柱组成;

2.根据权利要求1所述的一种基于纳米结构的长通截止滤光片,其特征在于,交叉阵列时,每组圆方柱组内斜对应的边圆柱形成穿过中央柱轴心相互垂直的两个轴面,相邻两圆方柱组内的两个轴面,其中一轴面共面、另一轴面平行。

3.根据权利要求2所述的一种基于纳米结构的长通截止滤光片,其特征在于,所述中央柱由上至下主体的高度分别为f3、f1、f0,所述边圆柱由上至下三层圆柱的高度分别为l、m、n;阵列周期为P;其中,f1=2-20nm、f3=...

【技术特征摘要】

1.一种基于纳米结构的长通截止滤光片,其特征在于,包括生长在二氧化硅衬底上的圆方柱组交叉阵列,所述圆方柱组由均布在中央柱四周的四根边圆柱组成;

2.根据权利要求1所述的一种基于纳米结构的长通截止滤光片,其特征在于,交叉阵列时,每组圆方柱组内斜对应的边圆柱形成穿过中央柱轴心相互垂直的两个轴面,相邻两圆方柱组内的两个轴面,其中一轴面共面、另一轴面平行。

3.根据权利要求2所述的一种基于纳米结构的长通截止滤光片,其特征在于,所述中央柱由上至下主体的高度分别为f3、f1、f0,所述边圆柱由上至...

【专利技术属性】
技术研发人员:钱沁宇谭杨陈锐王钦华
申请(专利权)人:扬州大学
类型:发明
国别省市:

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