【技术实现步骤摘要】
本申请涉及到供水设备，具体为一种具备自清洁的供水设备。
技术介绍
1、近年来，随着经济的快速发展，各地的高楼大厦如雨后春笋，一座座矗立在人们的面前，由于市政管网的压力只能达到0.2mpa左右，因此相应供水设备的数量也越来越多，但目前现有的供水设备在长时间供水后，内壁会产生水锈水垢，且现有的供水设备不能对内壁进行清洁，水锈水垢等赃物堆积在内壁容易造成细菌滋生，且还会影响供水系统，导致管道发生堵塞。
技术实现思路
1、针对现有技术不足，为解决现有供水设备内部不具备自动清洁的功能，供水设备长时间使用后，储水箱内水锈水垢杂质较多，需要人工拆卸并进行清洁，增加了工人劳动强度，并且清洁效率低，影响设备的正常供水的问题，本申请实施例提供如下技术方案：
2、一种具备自清洁的供水设备，包括水箱箱体，所述水箱箱体内部设置有清洁机构，所述清洁机构包括制热环、刮环、底座和连杆；
3、所述底座安装在所述水箱箱体内底部，所述底座转动安装有螺纹杆，所述螺纹杆上配合安装有圆环，所述圆环与所述连杆一...
【技术保护点】
1.一种具备自清洁的供水设备，其特征在于：包括水箱箱体（14），所述水箱箱体（14）内部设置有清洁机构，所述清洁机构包括制热环（9）、刮环（10）、底座（11）和连杆（18）；
2.根据权利要求1所述的一种具备自清洁的供水设备，其特征在于：所述制热环（9）内部安装有N型半导体和P型半导体，所述N型半导体两端分别与金属片A和金属片B电连接，所述P型半导体两端分别与金属片A和金属片B电连接，所述N型半导体、P型半导体、金属片A和金属片B组成环形闭合电路，所述金属片A位于所述制热环（9）内，所述金属片B位于所述伺服电机（2）内，所述金属片B和所述伺服电机（2）与
...【技术特征摘要】
1.一种具备自清洁的供水设备，其特征在于：包括水箱箱体（14），所述水箱箱体（14）内部设置有清洁机构，所述清洁机构包括制热环（9）、刮环（10）、底座（11）和连杆（18）；
2.根据权利要求1所述的一种具备自清洁的供水设备，其特征在于：所述制热环（9）内部安装有n型半导体和p型半导体，所述n型半导体两端分别与金属片a和金属片b电连接，所述p型半导体两端分别与金属片a和金属片b电连接，所述n型半导体、p型半导体、金属片a和金属片b组成环形闭合电路，所述金属片a位于所述制热环（9）内，所述金属片b位于所述伺服电机（2）内，所述金属片b和所述伺服电机（2）与电源电连接。
3.根据权利要求2所述的一种具备自清洁的供水设备，其特征在于：所述连杆（18）内开有管路，所述连杆（18）与所述刮环（10）连接处开有喷口（17），所述喷口（17）与所述管路连通，所述清洁罐（16）与所述管路连通。
4.根据...
【专利技术属性】
技术研发人员：滕波，刘辉，王凯，白莉，
申请(专利权)人：上海凯源泵业有限公司，
类型：发明
国别省市：
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