【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开涉及一种紫外线照射装置。
技术介绍
1、专利文献1公开了一种紫外线照射装置。紫外线照射装置包括：将深紫外区域的照射光照射到被照射面的光源、和控制光源工作的驱动电路。驱动电路以不进行照射光的照射的期间不超过三天的方式使光源间歇地工作。
2、现有技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：日本公开专利公报特开2020－202916号公报
技术实现思路
1、－专利技术要解决的技术问题－
2、但是，在由于照射光(紫外线)的照射量不充分而导致在紫外线的照射期间内未能充分地对霉菌进行杀菌的情况下，在不被照射光照射的期间中，霉菌有可能会繁殖。
3、本公开的目的在于：提供一种能够抑制菌类繁殖的紫外线照射装置。
4、－用于解决技术问题的技术方案－
5、第一方面的紫外线照射装置用于进行除菌。紫外线照射装置包括照射部11和控制部13，所述照射部11照射紫外线，所述控制部13以反复地进行第一模式m1和第二模式m2的方式控制所述照射部11，在所述第一模式m1下，使所述照射部11以规定期间内每单位面积上的紫外线的照射量小于基准照射量的方式照射紫外线，在所述第二模式m2下，使所述照射部11以所述规定期间内每单位面积上的紫外线的照射量为所述基准照射量以上的方式照射紫外线。
6、在第一方面中，能够抑制菌类繁殖。
7、第二方面在第一方面的基础上，在所述第一模式m1下，由所述照射部11间歇且多次地进行紫外线的照
8、在第二方面中，通过减少照射部11的工作时间，由此能够延长照射部11的寿命。
9、第三方面在第一方面的基础上，在所述第一模式m1下，由所述照射部11连续地进行紫外线的照射。
10、在第三方面中，在处于第一模式m1时能够稳定地抑制霉菌繁殖。
11、第四方面在第一到第三方面中任一方面的基础上，在所述紫外线的峰值波长为260nm以上且270nm以下，并且所述规定期间为一天的情况下，所述基准照射量为320mj/cm2，并且所述第一模式m1下的所述照射量的最低值为80mj/cm2。
12、在第四方面中，能够与紫外线的峰值波长相匹配地决定可有效地防止霉菌繁殖的紫外线的照射量。
13、第五方面在第一到第三方面中任一方面的基础上，在所述紫外线的峰值波长为249nm以上且259nm以下，并且所述规定期间为一天的情况下，所述基准照射量为298mj/cm2，并且所述第一模式m1下的所述照射量的最低值为74mj/cm2。
14、在第五方面中，能够与紫外线的峰值波长相匹配地决定可有效地防止霉菌繁殖的紫外线的照射量。
15、第六方面在第一到第三方面中任一方面的基础上，在所述紫外线的峰值波长为275nm以上且285nm以下，并且所述规定期间为一天的情况下，所述基准照射量为496mj/cm2，并且所述第一模式m1下的所述照射量的最低值为124mj/cm2。
16、在第六方面中，能够与紫外线的峰值波长相匹配地决定可有效地防止霉菌繁殖的紫外线的照射量。
17、第七方面在第一到第六方面中任一方面的基础上，从进行所述第二模式m2开始到进行下一次所述第二模式m2为止的期间y的上限是基于所述第一模式m1下的所述照射量而设定的。
18、在第七方面中，能够考虑到由处于第一模式m1时的照射量下的紫外线带来的杀菌能力(能够在多长期间内抑制住霉菌繁殖)，来决定进行第二模式m2的时刻。
19、第八方面在第四方面的基础上，从进行所述第二模式m2开始到进行下一次所述第二模式m2为止的期间y为y1小时以下，在将所述第一模式m1下的一天的所述照射量设为x时，所述y1小时由以下的数学式1表示，
20、(数学式1)
21、y1＝0.45x+33。
22、在第八方面中，能够将从进行第二模式m2开始到进行下一次第二模式m2为止的期间y的上限设为y1小时。
23、第九方面在第五方面的基础上，从进行所述第二模式m2开始到进行下一次所述第二模式m2为止的期间y为y2小时以下，在将所述第一模式m1下的一天的所述照射量设为x时，所述y2小时由以下的数学式2表示，
24、(数学式2)
25、y2＝0.49x+33。
26、在第九方面中，能够将从进行第二模式m2开始到进行下一次第二模式m2为止的期间y的上限设为y2小时。
27、第十方面在第六方面的基础上，从进行所述第二模式m2开始到进行下一次所述第二模式m2为止的期间y为y3小时以下，在将所述第一模式m1下的一天的所述照射量设为x时，所述y3小时由以下的数学式3表示，
28、(数学式3)
29、y3＝0.29x+33。
30、在第十方面中，能够将从进行第二模式m2开始到进行下一次第二模式m2为止的期间y的上限设为y3小时。
31、第十一方面在第一到第三方面中任一方面的基础上，所述基准照射量是基于将照射到作为除菌对象的菌类上的紫外线的照射量、所述紫外线的峰值波长、被照射了所述紫外线的菌类的死亡率或灭活率对应起来的对应信息而设定的。
32、在第十一方面中，能够基于对应信息设定基准照射量。
33、第十二方面在第一到第三方面中任一方面的基础上，在紫外线的峰值波长为260nm以上且270nm以下，对菌类照射了紫外线后使菌类的死亡率或灭活率为90％的所述规定期间内每单位面积上的紫外线的照射量为a，对菌类照射了紫外线后使菌类的死亡率或灭活率为99.99％的所述规定期间内每单位面积上的紫外线的照射量为b的情况下，所述基准照射量被设定为b，并且所述第一模式m1下的所述照射量的最低值被设定为a。
34、在第十二方面中，能够考虑到紫外线的峰值波长和由紫外线带来的菌类的死亡率或灭活率，来设定基准照射量和第一模式m1下的照射量的最低值。
35、第十三方面在第十二方面的基础上，在紫外线的峰值波长为260nm以上且270nm以下的情况下，设从进行所述第二模式m2开始到进行下一次所述第二模式m2为止的期间y为y4小时以下，在将所述第一模式m1下的所述照射量设为x时，所述y4小时由以下的数学式4表示，α及β是峰值波长为260nm以上且270nm以下的紫外线在规定期间内每单位面积上的照射量，所述β比所述α多，f(α)是以照射量α照射了紫外线后能够抑制住菌类繁殖的时间，f(β)是以照射量β照射了紫外线后能够抑制住菌类繁殖的时间。
36、(数学式4)
37、y4＝a·x+b
38、a＝{f(β)－f(α)/(β－α)}
39、b＝f(α)－a·α。
40、在第十三方面中，能够通过运算求出从进行第二模式m2开始到进行下一次第二模式m2为止的期间y。
41、第十四方面在第十三方面的基础上，在紫外线的峰值波本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种紫外线照射装置，其用于进行除菌，其特征在于：
2.根据权利要求1所述的紫外线照射装置，其特征在于：在所述第一模式(M1)下，由所述照射部(11)间歇且多次地进行紫外线的照射。
3.根据权利要求1所述的紫外线照射装置，其特征在于：在所述第一模式(M1)下，由所述照射部(11)连续地进行紫外线的照射。
4.根据权利要求1到3中任一项权利要求所述的紫外线照射装置，其特征在于：在所述紫外线的峰值波长为260nm以上且270nm以下，并且所述规定期间为一天的情况下，所述基准照射量为320mJ/cm2，并且所述第一模式(M1)下的所述照射量的最低值为80mJ/cm2。
5.根据权利要求1到3中任一项权利要求所述的紫外线照射装置，其特征在于：在所述紫外线的峰值波长为249nm以上且259nm以下，并且所述规定期间为一天的情况下，所述基准照射量为298mJ/cm2，并且所述第一模式(M1)下的所述照射量的最低值为74mJ/cm2。
6.根据权利要求1到3中任一项权利要求所述的紫外线照射装置，其特征在于：在所述紫外线的峰值波长为2
7.根据权利要求1到6中任一项权利要求所述的紫外线照射装置，其特征在于：从进行所述第二模式(M2)开始到进行下一次所述第二模式(M2)为止的期间(Y)的上限是基于所述第一模式(M1)下的所述照射量而设定的。
8.根据权利要求4所述的紫外线照射装置，其特征在于：从进行所述第二模式(M2)开始到进行下一次所述第二模式(M2)为止的期间(Y)为Y1小时以下，
9.根据权利要求5所述的紫外线照射装置，其特征在于：从进行所述第二模式(M2)开始到进行下一次所述第二模式(M2)为止的期间(Y)为Y2小时以下，
10.根据权利要求6所述的紫外线照射装置，其特征在于：从进行所述第二模式(M2)开始到进行下一次所述第二模式(M2)为止的期间(Y)为Y3小时以下，
11.根据权利要求1到3中任一项权利要求所述的紫外线照射装置，其特征在于：所述基准照射量是基于将照射到作为除菌对象的菌类上的紫外线的照射量、所述紫外线的峰值波长、被照射了所述紫外线的菌类的死亡率或灭活率对应起来的对应信息而设定的。
12.根据权利要求1到3中任一项权利要求所述的紫外线照射装置，其特征在于：在紫外线的峰值波长为260nm以上且270nm以下，
13.根据权利要求12所述的紫外线照射装置，其特征在于：在紫外线的峰值波长为260nm以上且270nm以下的情况下，
14.根据权利要求13所述的紫外线照射装置，其特征在于：在紫外线的峰值波长为249nm以上且259nm以下的情况下，
15.根据权利要求14所述的紫外线照射装置，其特征在于：在紫外线的峰值波长为249nm以上且259nm以下的情况下，
16.根据权利要求13到15中任一项权利要求所述的紫外线照射装置，其特征在于：在紫外线的峰值波长为275nm以上且285nm以下的情况下，
17.根据权利要求16所述的紫外线照射装置，其特征在于：在紫外线的峰值波长为275nm以上且285nm以下的情况下，
18.根据权利要求1到3中任一项权利要求所述的紫外线照射装置，其特征在于：作为除菌对象的菌类包含镰刀菌或青霉菌，
19.根据权利要求1到3中任一项权利要求所述的紫外线照射装置，其特征在于：作为除菌对象的菌类包含枝孢菌或曲霉菌，
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种紫外线照射装置，其用于进行除菌，其特征在于：
2.根据权利要求1所述的紫外线照射装置，其特征在于：在所述第一模式(m1)下，由所述照射部(11)间歇且多次地进行紫外线的照射。
3.根据权利要求1所述的紫外线照射装置，其特征在于：在所述第一模式(m1)下，由所述照射部(11)连续地进行紫外线的照射。
4.根据权利要求1到3中任一项权利要求所述的紫外线照射装置，其特征在于：在所述紫外线的峰值波长为260nm以上且270nm以下，并且所述规定期间为一天的情况下，所述基准照射量为320mj/cm2，并且所述第一模式(m1)下的所述照射量的最低值为80mj/cm2。
5.根据权利要求1到3中任一项权利要求所述的紫外线照射装置，其特征在于：在所述紫外线的峰值波长为249nm以上且259nm以下，并且所述规定期间为一天的情况下，所述基准照射量为298mj/cm2，并且所述第一模式(m1)下的所述照射量的最低值为74mj/cm2。
6.根据权利要求1到3中任一项权利要求所述的紫外线照射装置，其特征在于：在所述紫外线的峰值波长为275nm以上且285nm以下，并且所述规定期间为一天的情况下，所述基准照射量为496mj/cm2，并且所述第一模式(m1)下的所述照射量的最低值为124mj/cm2。
7.根据权利要求1到6中任一项权利要求所述的紫外线照射装置，其特征在于：从进行所述第二模式(m2)开始到进行下一次所述第二模式(m2)为止的期间(y)的上限是基于所述第一模式(m1)下的所述照射量而设定的。
8.根据权利要求4所述的紫外线照射装置，其特征在于：从进行所述第二模式(m2)开始到进行下一次所述第二模式(m2)为止的期间(y)为y1小时以下，
9.根据权利要求5所述的紫外线照...
【专利技术属性】
技术研发人员：越山达贵，田中利夫，小山千佳，
申请(专利权)人：大金工业株式会社，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。