【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及臭氧收集装置，尤其涉及一种高纯度臭氧收集装置及其收集方法。
技术介绍
1、在现代材料科学领域中，高纯度臭氧的制备能力已经演变成为一项至关重要的核心要素，对于高质量氧化物材料的制备以及半导体制造工艺的推进具有举足轻重的意义。高纯度臭氧凭借其超强的氧化能力，可以加快沉积原子或分子的反应进程，促使其在基底表面实现更高效的扩散与重排：这不仅提升了薄膜的结晶度与致密性，显著改善其晶体质量；而且较快的生长速率为工业生产效率的提高提供了有力支撑。同时，高纯度臭氧可以大幅降低反应活化能，能够在低温条件和高真空环境下实现苛刻的氧化反应，为温度敏感材料与具有苛刻氧化态的氧化物材料的制备开辟了新道路。另一方面，高纯度臭氧的制备在半导体制程的清洗和蚀刻等工艺中扮演着关键角色，对半导体制造工艺的精细化、高效化发展起到了不可或缺的推动作用。高纯度臭氧的精准制备不仅是材料科学研究中的重要一环，更是确保高质量氧化物材料能够成功合成的关键所在。同时，这一制备能力对于半导体制造工艺的精细化、高效化发展起到了不可或缺的推动作用。高纯度臭氧作为材料科学领域的重要...
【技术保护点】
1.一种高纯度臭氧收集装置，包括套管(1)、设置在套管(1)内带有进气管(2)和排气管(3)的蒸馏管(4)以及温度调控组件(5)，进气管(2)连接臭氧发生器(10)，蒸馏管(4)和套管(1)之间为密封腔，其特征在于，所述蒸馏管(4)为钝化不锈钢蒸馏管，蒸馏管(4)的进气管(2)伸入其底部但不接触，且内腔设有层状分布结构(6)和混合吸附介质(7)。
2.根据权利要求1所述的臭氧收集装置，其特征在于：所述层状分布结构(6)由一片或多于一片的打有若干气孔的薄片组成。
3.根据权利要求1所述的臭氧收集装置，其特征在于：所述混合吸附介质(7)由两种及以上...
【技术特征摘要】
1.一种高纯度臭氧收集装置，包括套管(1)、设置在套管(1)内带有进气管(2)和排气管(3)的蒸馏管(4)以及温度调控组件(5)，进气管(2)连接臭氧发生器(10)，蒸馏管(4)和套管(1)之间为密封腔，其特征在于，所述蒸馏管(4)为钝化不锈钢蒸馏管，蒸馏管(4)的进气管(2)伸入其底部但不接触，且内腔设有层状分布结构(6)和混合吸附介质(7)。
2.根据权利要求1所述的臭氧收集装置，其特征在于：所述层状分布结构(6)由一片或多于一片的打有若干气孔的薄片组成。
3.根据权利要求1所述的臭氧收集装置，其特征在于：所述混合吸附介质(7)由两种及以上的材质构成，其中包括导热性良好的介质和多孔吸附介质，且所述混合吸附介质(7)具备臭氧反应惰性。
4.根据权利要求1所述的臭氧收集装置，其特征在于：所述套管(1)为中空夹层结构，所...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。