【技术实现步骤摘要】
本技术涉及研磨介质清洗的，特别是一种用于清洗研磨介质的设备。
技术介绍
1、在日常研磨过程中需添加研磨介质进行砂磨，导致研磨介质长期直接与浆料接触，需要时常的清洗。如果在生产过程中需要清洗，一般使用以下方法：
2、第一，研磨介质直接在研磨机内进行清洗，如使用溶剂，会导致大量溶剂浪费，如使用清洁液，则会污染设备，并且使用研磨机清洗会占用研磨机，无法进行下批次生产与实验，影响实验效率；
3、第二，将研磨介质排出清洗，如人为手动清洗，使用搅拌棒、刷子等工具进行清洗，这样就导致清洗效果不佳，清洗不到位；同时还需消耗大量的人力资源，且耗时较长。
4、有鉴于此，本专利技术人专门设计了一种用于清洗研磨介质的设备，本案由此产生。
技术实现思路
1、本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本技术的一个目的在于提出了一种用于清洗研磨介质的设备，通过设置用于放置研磨介质的内罐体，同时采用旋转电机驱动内罐体，并在内罐体内设置可转动的搅拌叶配合清洗，可实现对研磨介质...
【技术保护点】
1.一种用于清洗研磨介质的设备，其特征在于，包括用于容纳清洗液的外罐体(10)、设置于外罐体(10)外侧底部且输出端朝向外罐体(10)内部的旋转电机(20)、位于外罐体(10)内部且通过旋转电机(20)驱动旋转的内罐体(30)、设置于外罐体(10)开口处的上盖(40)、设置于上盖(40)上且输出端朝向内罐体(30)内部的搅拌电机(50)、设置于内罐体(30)内且通过搅拌电机(50)驱动的搅拌叶(60)；
2.根据权利要求1所述的一种用于清洗研磨介质的设备，其特征在于，清洗时，所述内罐体(30)旋转方向与搅拌叶(60)旋转方向相同或相反。
3.根...
【技术特征摘要】
1.一种用于清洗研磨介质的设备，其特征在于，包括用于容纳清洗液的外罐体(10)、设置于外罐体(10)外侧底部且输出端朝向外罐体(10)内部的旋转电机(20)、位于外罐体(10)内部且通过旋转电机(20)驱动旋转的内罐体(30)、设置于外罐体(10)开口处的上盖(40)、设置于上盖(40)上且输出端朝向内罐体(30)内部的搅拌电机(50)、设置于内罐体(30)内且通过搅拌电机(50)驱动的搅拌叶(60)；
2.根据权利要求1所述的一种用于清洗研磨介质的设备，其特征在于，清洗时，所述内罐体(30)旋转方向与搅拌叶(60)旋转方向相同或相反。
3.根据权利要求1所述的一种用于清洗研磨介质的设备，其特征在于，所述外罐体(10)外侧壁靠近上方位置设置于其内部连通的进液管(11)，且外侧壁靠近下方位置设置与其内部连通的出液管(12)。
4.根据权利要求1所述的一种用于清洗研磨介质的设备，其特征在于，该设备还设置用于烘干研磨介质的烘干装置(70)。
5.根据权利要求4所述的一种用于清洗研磨介质的设备，其特征在于，所述烘干装置(70)采用烘干机，所述外罐体(10)外侧壁设置用于连接...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴忠忠，蒋玉雄，王建林，钟颖苑，钟启仲，
申请(专利权)人：厦门高容纳米新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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