一种低通量损失的碳化硅催化膜的快速制备方法技术

技术编号:45071668 阅读:16 留言:0更新日期:2025-04-25 18:14
本发明专利技术公开了一种低通量损失的碳化硅催化膜的快速制备方法,涉及协同除尘脱硝领域。采用喷涂法制备出了碳化硅催化膜,包括以下的步骤:(a)去离子水超声清洗碳化硅膜管上的杂质并干燥;(b)制备催化剂喷涂液;(c)使用喷涂对碳化硅膜管进行催化剂的喷涂负载并干燥煅烧。该方法具有步骤简单、气通量损失低、协同除尘脱硝优异的优点,能够实现大规模催化膜的制备。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术设计除尘脱硝一体化领域,尤其涉及一种低通量损失的碳化硅催化膜的快速制备方法


技术介绍

1、在工业生产中会产生包含细小颗粒物pm2.5、氮氧化物(nox)、挥发性有机物(vocs)等的工业尾气。其中氮氧化物和细小颗粒物分别会造成酸雨和雾霾环境问题以及会对人体健康产生不可逆的危害。

2、在工业排放气体净化中除尘脱硝分多个单元进行,通常是先脱硝后除尘。使用的脱硝技术为nh3-scr技术,其具有脱硝效率高,无二次污染的优点。除尘主流采用的是具有除尘效率高的静电除尘技术,但是存在设备复杂的缺点。多步进行除尘脱硝不仅消耗较多的能耗而且占地面积大。另外,高浓度的灰尘会覆盖催化剂的活性位点和发生碱金属中毒现象,随着长期的运行会降低催化剂活性,缩短催化剂的使用寿命。sic陶瓷膜有着耐高温、抗热震性能好、机械强度大的优势,在高温除尘方面已经实现了商业的应用。将脱硝催化剂和sic陶瓷膜进行结合,这可以实现同时去除nox和粉尘,同时也减少了废气净化系统的占地面积。

3、在用于除尘脱硝碳化硅催化膜方面已经有了一些研究。专利号为cn11451558本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种低通量损失的碳化硅催化膜的快速制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种低通量损失的碳化硅催化膜的快速制备方法,其特征在于,该SiC陶瓷膜管是以碳化硅为支撑体,碳化硅为膜层。

3.根据权利要求1所述的一种低通量损失的碳化硅催化膜的快速制备方法,其特征在于,步骤B中六水合硝酸铈和磷酸和去离子水的摩尔比为1:1:30~1:1.4:60;转速为300~900r/min,搅拌时间为2~4 h。

4.根据权利要求1所述的一种低通量损失的碳化硅催化膜的快速制备方法,其特征在于,步骤C中转速为500~1000 r/min,搅拌时间为8...

【技术特征摘要】

1.一种低通量损失的碳化硅催化膜的快速制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种低通量损失的碳化硅催化膜的快速制备方法,其特征在于,该sic陶瓷膜管是以碳化硅为支撑体,碳化硅为膜层。

3.根据权利要求1所述的一种低通量损失的碳化硅催化膜的快速制备方法,其特征在于,步骤b中六水合硝酸铈和磷酸和去离子水的摩尔比为1:1:30~1:1.4:60;转速为300~900r/min,搅拌时间为2~4 h。

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【专利技术属性】
技术研发人员:仲兆祥乔江潇韩继成高菲曾毅清邢卫红
申请(专利权)人:南京工业大学
类型:发明
国别省市:

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