金属颗粒、金属网格触控膜、制备方法、触摸屏技术

技术编号:45064404 阅读:19 留言:0更新日期:2025-04-25 18:09
本申请公开了一种金属颗粒、金属网格触控膜、触摸屏、金属颗粒的制备方法、金属网格触控膜的制备方法。该金属颗粒用于金属网格触控膜,且该金属颗粒包括:金属单质及包覆在金属单质的外壁上的外被层,以提高金属颗粒的环境适应性。通过这种方式,能够提高金属颗粒、金属网格触控膜及触摸屏的环境适应性。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及触摸屏,特别是涉及一种金属颗粒、金属网格触控膜、触摸屏、金属颗粒的制备方法、金属网格触控膜的制备方法。


技术介绍

1、现有技术中,通常采用氧化铟锡(indium tin oxide,ito)、网络银线(ag nanowire,agnw)这两类整面导电材料进行激光镭射或黄光蚀刻制备触摸屏的触控电极,但是由于这两种导电材料的导电性并不好,因此近年来发展出一种新的导电材料:金属网格,此种导电材料可做到方块电阻5ω以内,并且具有柔性可弯折特性,因此可大量应用于大尺寸触摸屏或小尺寸的曲面触摸屏或可弯折的移动设备等。

2、金属网格采用金属浆作为导电材料,但因为金属颗粒非常活跃,不耐酸碱,并且电容式触控屏等需要在电极通道中通入高电压(大尺寸通常在20v以上),而在电场环境下银容易发生离子迁移导致导电通道之间发生短路或导电通道本身开路,此问题在高温高湿的环境中更加显著。


技术实现思路

1、本申请提供一种金属颗粒、金属网格触控膜、触摸屏、金属颗粒的制备方法、金属网格触控膜的制备方法,以提高金属颗粒、金属网本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种金属颗粒,其特征在于,用于金属网格触控膜,所述金属颗粒包括:金属单质及包覆在所述金属单质的外壁上的外被层,以提高所述金属颗粒的环境适应性。

2.根据权利要求1所述的金属颗粒,其特征在于,所述外被层包括:绝缘层,所述绝缘层的厚度小于1000nm。

3.根据权利要求2所述的金属颗粒,其特征在于,所述绝缘层的材料包括树脂、橡胶中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的金属颗粒,其特征在于,所述外被层包括:导体层或半导体层。

5.根据权利要求4所述的金属颗粒,其特征在于,所述导体层的材料包:铝、铜、金、铬、石墨烯中的至少一种;

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【技术特征摘要】

1.一种金属颗粒,其特征在于,用于金属网格触控膜,所述金属颗粒包括:金属单质及包覆在所述金属单质的外壁上的外被层,以提高所述金属颗粒的环境适应性。

2.根据权利要求1所述的金属颗粒,其特征在于,所述外被层包括:绝缘层,所述绝缘层的厚度小于1000nm。

3.根据权利要求2所述的金属颗粒,其特征在于,所述绝缘层的材料包括树脂、橡胶中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的金属颗粒,其特征在于,所述外被层包括:导体层或半导体层。

5.根据权利要求4所述的金属颗粒,其特征在于,所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵演方俊
申请(专利权)人:广州视源电子科技股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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