校准射频信号发生器中的信号电流制造技术

技术编号:44968943 阅读:31 留言:0更新日期:2025-04-12 01:42
提供了用于校准射频信号发生器系统(诸如任意波形发生器系统)中的信号电流的技术。一种设备包括电流测量电路和电流不平衡校正电路。电流测量电路被配置为在校准过程期间测量射频信号发生器的第一信号路径中的第一电流,并且测量射频信号发生器的第二信号路径中的第二电流。电流不平衡校正电路被配置为调整射频信号发生器的第一信号路径和第二信号路径中的至少一者中的电流水平,以校正测量的第一电流和测量的第二电流之间的不平衡。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】


技术介绍

1、本公开总体上涉及射频(rf)信号发生器,以及用于校准诸如任意波形发生器(awg)系统的rf信号发生器的技术。对于各种应用,rf信号发生器包括正交架构,其中使用单边带(ssb)调制系统将基带信号上变频为rf信号,单边带(ssb)调制系统使用正交基带信号调制正交本地振荡器(lo)信号。对于ssb调制,生成无lo泄漏或边带镜像杂散(或显著抑制的杂散)的高保真rf信号,需要同相(i)和正交相(q)信号分量之间精确的幅度平衡和相位平衡。更具体地,正交i/q信号分量之间的幅度和相位不平衡可能导致下降的镜像抑制性能,这导致不想要的边带杂散的存在。此外,同一相位中的正分量和负分量(例如,i+和i-)之间的dc偏移可能导致lo泄漏杂散。当i和q通道的信号路径使用单端基带滤波器结构实现时,测量和校准i/q不平衡尤为重要。由于器件失配,单端滤波器元件可能存在损害rf性能的固有幅度不平衡。

2、用于检测和校准rf信号发生器中的i/q信号的幅度和相位不平衡的传统技术通常利用片上或片外校准仪器,该片上或片外校准仪器被配置为执行rf测量以分析由rf信号发生器本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种设备,包括:

2.根据前述权利要求所述的设备,还包括控制电路,所述控制电路被配置为确定测量的第一电流和测量的第二电流之间的差,基于测量的第一电流和测量的第二电流之间的所确定的差来生成控制信号,并且将所述控制信号输出到所述电流不平衡校正电路;

3.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中,所述第一电流和所述第二电流包括以下各项中的一项:同相基带电流和正交相位基带电流、一对互补的同相基带电流,以及一对互补的正交相位基带电流。

4.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中所述电流测量电路包括:

5.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种设备,包括:

2.根据前述权利要求所述的设备,还包括控制电路,所述控制电路被配置为确定测量的第一电流和测量的第二电流之间的差,基于测量的第一电流和测量的第二电流之间的所确定的差来生成控制信号,并且将所述控制信号输出到所述电流不平衡校正电路;

3.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中,所述第一电流和所述第二电流包括以下各项中的一项:同相基带电流和正交相位基带电流、一对互补的同相基带电流,以及一对互补的正交相位基带电流。

4.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中所述电流测量电路包括:

5.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中所述电流测量电路包括:

6.根据前一项权利要求所述的设备,其中所述电流比较器电路包括:

7.根据前一项权利要求所述的设备,其中:

8.一种系统,包括:

9.根据前一项权利要求所述的系统,其中所述校准系统还包括控制电路,所述控制电路被配置为确定测量的第一电流和测量的第二电流之间的差,基于测量的第一电流和测量的第二电流之间的所确定的差来生成控制信号,以及将所述控制信号输出到所述电流不平衡校正电路;

10.根据前两项权利要求中任一项所述的系统,其中所述电流不平衡校正电路包括:

11.根据前三项权利要求中任一项所述的系统,其中:

12.根据前四项权利要求中任一项所述的系统,其中:

13.根据前一项权利要求所述的系统,其中:

14.根据前两项权利要求中任一项所述的系统,其中,在所述校准过程期间,通过将静态电压施加到所述混频器级的本地振荡器输入以在给定时间选择性地激活所述混频器级中的一个晶体管来配置所述混频器级,以在所述给定时间在所...

【专利技术属性】
技术研发人员:S·查克拉博蒂J·布尔扎彻利A·戴维斯D·弗雷德曼D·弗兰克
申请(专利权)人:国际商业机器公司
类型:发明
国别省市:

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