一种高阶二维厄米-高斯模式激光器制造技术

本发明专利技术公开了一种高阶二维厄米‑高斯模式激光器，所述激光器包括：泵浦源、泵浦聚焦镜、激光增益介质、激光全反镜、凹面折叠镜、激光输出镜，其中，所述泵浦源发射所述激光增益介质吸收带内的泵浦光，泵浦光被所述泵浦聚焦镜聚焦进入所述激光增益介质；所述激光增益介质吸收泵浦光，形成粒子数反转，产生激光增益；所述激光全反镜、凹面折叠镜对激光波长具有高反射率，所述激光输出镜对激光波长具有部分透过率，三者共同构成折叠的激光谐振腔，为激光提供反馈。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及激光器领域，尤其涉及一种高阶二维厄米-高斯模式激光器。

技术介绍

1、高阶二维厄米-高斯模式具有独特的矩形点阵状光强和相位分布，在加工、照明等领域具有重要的应用；特别是高阶厄米-高斯模式激光可以通过柱透镜等器件变换为带有轨道角动量的高阶拉盖尔高斯模式激光，为量子光学、大容量光通信、荧光显微等前沿应用提供了重要的工具。一维厄米-高斯光束经过变换后对应角向指数为零的拉盖尔-高斯光束，而二维厄米-高斯光束则可经变换得到一般较难获得的多环状非零径向指数的拉盖尔-高斯光束，其两个维度上模式阶次的较小值即为变换后拉盖尔-高斯光束的径向指数。因此高阶二维厄米-高斯模式的激光光源受到了广泛的关注。

2、二维厄米-高斯光束的产生具有较大的难度。离轴泵浦是产生一维厄米-高斯模式最为常用的方法：谐振腔的基模和高阶模式的中心均与谐振腔的光轴重合，基模的光强最大值位于中心，一维厄米-高斯模式的光强最大值位于两端的极大值点，二维厄米-高斯模式的光强最大值位于矩形四角处的极大值点；当泵浦光的光路偏离谐振腔的光轴时，泵浦光与高阶厄米-高斯模式有更好的交叠，就能激本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种高阶二维厄米-高斯模式激光器，其特征在于，所述激光器包括：泵浦源、泵浦聚焦镜、激光增益介质、激光全反镜、凹面折叠镜、激光输出镜，

2.根据权利要求1所述的一种高阶二维厄米-高斯模式激光器，其特征在于，

3.根据权利要求1所述的一种高阶二维厄米-高斯模式激光器，其特征在于，

4.根据权利要求1所述的一种高阶二维厄米-高斯模式激光器，其特征在于，所述激光增益介质是稀土离子或过渡金属离子掺杂的体块状晶体、玻璃或陶瓷等增益介质，或固化的染料或封装的气体、液体，或光学参量振荡或拉曼激光器的非线性增益介质。

5.根据权利要求1所述的一种高阶二维...

【技术特征摘要】

1.一种高阶二维厄米-高斯模式激光器，其特征在于，所述激光器包括：泵浦源、泵浦聚焦镜、激光增益介质、激光全反镜、凹面折叠镜、激光输出镜，

2.根据权利要求1所述的一种高阶二维厄米-高斯模式激光器，其特征在于，

3.根据权利要求1所述的一种高阶二维厄米-高斯模式激光器，其特征在于，

4.根据权利要求1所述的一种高阶二维厄米-高斯模式激光器，其特征在于，所述激光增益介质是稀土离子或过渡金属离子掺杂的体块状晶体、玻璃或陶瓷等增益介质，或固化的染料或封装的气体、液体，或光学参量振荡或拉曼激光器的非...

【专利技术属性】
技术研发人员：盛泉，刘天畅，耿婧旎，付士杰，史伟，姚建铨，
申请(专利权)人：天津大学，
类型：发明
国别省市：