【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于资源综合利用、固废资源化和矿物材料加工领域,具体涉及一种高纯二氧化硅和高纯石英的制备方法。
技术介绍
1、高纯二氧化硅和高纯石英砂是制备石英玻璃、集成电路板、半导体芯片、光纤通讯、多晶硅、单晶硅以及光学仪器等的重要原料,是新能源太阳能、光纤通讯、信息技术、激光、半导体、航空航天、国防军事等领域不可替代的关键原料。
2、由于高纯石英的应用领域多为高科技领域,入行门槛较高且要求差异较大,行业内尚未形成统一的高纯石英界定标准。目前在评价高纯石英纯度时仍以有限数量的金属杂质元素含量为主。国外按照其杂质含量分为超纯(杂质含量0.1~1ug/g)、超高纯(杂质含量1~8ug/g,sio2含量>99.999%)、高纯(杂质含量8~50ug/g,sio2含量99.995%~99.999%)、中高等纯度(杂质含量50~300ug/g,sio2含量99.97%~99.995%)、中等纯度(杂质含量300~5000ug/g,sio2含量99.5%~99.97%)、低等级(杂质含量5000~10000ug/g,sio2含量99%~99
...【技术保护点】
1.一种高纯二氧化硅和高纯石英的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
2.根据权利要求1所述高纯二氧化硅和高纯石英的制备方法,其特征在于,预处理的方式为破碎磨矿、焙烧活化、热活化、机械活化中的至少一种。
3.根据权利要求1所述高纯二氧化硅和高纯石英的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)中,酸法工艺为直接酸浸处理或酸化焙烧后水浸;
4.根据权利要求1所述高纯二氧化硅和高纯石英的制备方法,其特征在于,所述步骤(3)中,氟化铵溶液的质量浓度为10%~80%;氟化铵溶液浸出的液固质量比为2:1~16:1,温度为15~100℃,时间为0.5~
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【技术特征摘要】
1.一种高纯二氧化硅和高纯石英的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
2.根据权利要求1所述高纯二氧化硅和高纯石英的制备方法,其特征在于,预处理的方式为破碎磨矿、焙烧活化、热活化、机械活化中的至少一种。
3.根据权利要求1所述高纯二氧化硅和高纯石英的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)中,酸法工艺为直接酸浸处理或酸化焙烧后水浸;
4.根据权利要求1所述高纯二氧化硅和高纯石英的制备方法,其特征在于,所述步骤(3)中,氟化铵溶液的质量浓度为10%~80%;氟化铵溶液浸出的液固质量比为2:1~16:1,温度为15~100℃,时间为0.5~3h。
5.根据权利要求1所述高纯二氧化硅和高纯石英的制备方法,其特征在于,所述步骤(4)中,将氟硅酸铵溶液中通入氨...
【专利技术属性】
技术研发人员:高利坤,饶兵,戴惠新,甘峰睿,
申请(专利权)人:昆明理工大学,
类型:发明
国别省市:
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