【技术实现步骤摘要】
本技术涉及抛光机，尤其是涉及一种传送带式磁流变抛光机。
技术介绍
1、随着现代科学技术的发展，对各种光学系统所用的光学元件的要求越来越高。在航空，航空航天和国防工业领域，各种仪器和设备对光学玻璃和玻璃陶瓷等光学材料的需求日益增加。对光学材料的表面质量和精度的要求也在增加，并且在需求量方面也在不断的增加。在核能，航空航天等重要经济产业领域，这种超光滑表面的光学零件也被广泛使用。
2、一般来说，光学元件的最终生产需要具有高表面精度、良好的表面质量和最小的表面下损伤。高表面精度保证良好的图像质量，光滑的表面减少散射，较低的表面下损伤可避免高能量应用中的损坏。因此，光学元件的性能在很大程度上取决于制造工艺好坏。所以目前已经开发了多种加工方法来获得高精度的加工表面，其中典型的加工方法是塑料磨削，化学抛光，浮动抛光，弹性排放处理，粒子束抛光，喷射抛光等。这些加工方法或抛光效率过低，或产生较大的表面下损伤，或抛光不易控制，因此，需要提供一种抛光效率高且表面下损伤小的抛光设备。
技术实现思路
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【技术保护点】
1.一种传送带式磁流变抛光机，其特征在于：包括机架，所述机架的水平部上设有抛光平台和磁流变抛光液喷洒输送装置，所述抛光平台与所述磁流变抛光液喷洒输送装置中的输送带的上行皮带的下表面接触连接，所述机架的竖直部上设有抛光装置，所述抛光装置上的工件吸附盘与所述磁流变抛光液喷洒输送装置中的输送带的顶面对应设置。
2.根据权利要求1所述的传送带式磁流变抛光机，其特征在于：所述磁流变抛光液喷洒输送装置包括相对设置的两个支撑架，其中一个支撑架上设有主动辊，另一个支撑架上设有从动辊，所述主动辊与第一旋转驱动装置连接，所述主动辊和所述从动辊之间套设有所述输送带，所述输送带的...
【技术特征摘要】
1.一种传送带式磁流变抛光机，其特征在于：包括机架，所述机架的水平部上设有抛光平台和磁流变抛光液喷洒输送装置，所述抛光平台与所述磁流变抛光液喷洒输送装置中的输送带的上行皮带的下表面接触连接，所述机架的竖直部上设有抛光装置，所述抛光装置上的工件吸附盘与所述磁流变抛光液喷洒输送装置中的输送带的顶面对应设置。
2.根据权利要求1所述的传送带式磁流变抛光机，其特征在于：所述磁流变抛光液喷洒输送装置包括相对设置的两个支撑架，其中一个支撑架上设有主动辊，另一个支撑架上设有从动辊，所述主动辊与第一旋转驱动装置连接，所述主动辊和所述从动辊之间套设有所述输送带，所述输送带的一端设有位于其上行皮带上方的喷射板，所述输送带的另一端设有位于其下行皮带下方的液池，所述液池通过输送管与所述喷射板连接，所述输送管上设有输送泵。
3.根据权利要求2所述的传送带式磁流变抛光机，其特征在于：所述喷射板的侧面上设有在所述输送带的整个宽度方向上均匀分布的喷嘴，所述喷嘴上设有电磁控制阀。
4.根据权利要求3所述的传送带式磁流变抛光机，其特征在于：所述支撑架上设有位于所述液池上方的刮板，所述刮板与所述输送带的下行皮带接触连接。
5.根据权利要求4所述的传送带式磁流变抛光机，其特征在于：所述液池的中部设有分隔板，所述分隔板的一侧为回收腔，所述回收腔位于所述刮板的下方，所述分隔板的另一侧为新液腔，所述新液腔与所述输送管的进液端...
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