一种稳态强磁场平台样品居中装置及方法制造方法及图纸

技术编号:44931423 阅读:32 留言:0更新日期:2025-04-08 19:13
本发明专利技术涉及强磁场平台样品室技术领域,具体提供了一种稳态强磁场平台样品居中装置及方法,样品居中装置包括:第一容器、第二容器以及惰性填充物;第二容器用于封装实验样品;第二容器居中嵌入第一容器内,第二容器与第一容器之间的间隙填充有惰性填充物;第一容器居中的嵌入强磁场平台的合金坩埚内。本发明专利技术提供的样品居中装置,可满足小尺寸块体、薄带以及粉体等非标准特殊尺寸实验样品进行强磁场实验的工艺要求,操作方案简单高效,实验结果稳定可靠,可有效降低实验样品居中误差。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于强磁场平台样品室,具体涉及一种稳态强磁场平台样品居中装置及方法


技术介绍

1、强磁场是指采用超导技术产生的2t(tesla)以上的磁场,具有清洁性、方向性和无接触性等特点。现有的超导强磁场平台采用nb3sn材料的超导磁体,产生的稳态磁场强度可以达到18t,可以实现从室温至1200k高温的温度范围实验环境。

2、稳态强磁场平台的样品室(耐高温合金坩埚,有效尺寸为φ35mm×80mm)为上端开口的空心圆柱,样品室通过定位架定位于线圈和强磁场的中心位置,以满足样品进行强磁场和升温加热实验的工艺要求。通常情况下,样品尺寸要求为25mm×25mm×80mm的长方体或φ35mm×80mm的圆柱体标准形状,样品尺寸和耐高温合金坩埚的内径尺寸相匹配,可以直接置于合金坩埚中,正常开展强磁场和升温加热实验工作。

3、然而在实际的实验过程中,很多样品材料本身尺寸较小,加工成规则形状时单个维度的尺寸只有几个毫米,远远低于标准形状的尺寸要求。由于这类样品尺寸比较特殊,依照常规操作的要求,无法合适的固定在合金坩埚中部,从而偏离强磁场的中心区,造本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种稳态强磁场平台样品居中装置,其特征在于,包括:第一容器、第二容器以及惰性填充物;所述第二容器用于封装实验样品;所述第二容器居中嵌入所述第一容器内,所述第二容器与所述第一容器之间的间隙填充有所述惰性填充物;所述第一容器居中的嵌入强磁场平台的合金坩埚内。

2.根据权利要求1所述一种稳态强磁场平台样品居中装置,其特征在于,所述惰性填充物由填料、粘结剂及溶剂混合后形成浆料,再将所述浆料干燥制得。

3.根据权利要求1所述一种稳态强磁场平台样品居中装置,其特征在于,所述填料包括氧化硅、氧化镁、氧化铝、氧化铬绿和氧化锆中的一种或多种的混合。

<p>4.根据权利要求...

【技术特征摘要】

1.一种稳态强磁场平台样品居中装置,其特征在于,包括:第一容器、第二容器以及惰性填充物;所述第二容器用于封装实验样品;所述第二容器居中嵌入所述第一容器内,所述第二容器与所述第一容器之间的间隙填充有所述惰性填充物;所述第一容器居中的嵌入强磁场平台的合金坩埚内。

2.根据权利要求1所述一种稳态强磁场平台样品居中装置,其特征在于,所述惰性填充物由填料、粘结剂及溶剂混合后形成浆料,再将所述浆料干燥制得。

3.根据权利要求1所述一种稳态强磁场平台样品居中装置,其特征在于,所述填料包括氧化硅、氧化镁、氧化铝、氧化铬绿和氧化锆中的一种或多种的混合。

4.根据权利要求2所述一种稳态强磁场平台样品居中装置,其特征在于,所述填料包括粗颗粒和细颗粒,所述粗颗粒的粒度为2-5mm,所述细颗粒的粒度为1-2mm。

5.根据权利要求1所述一种稳态强磁场平台样品居中装置,其特征在于,所述样品居中装置还包括定位件,所述定位件包括圆柱...

【专利技术属性】
技术研发人员:张刚王清孟思华唐志鹏侯廷平吴开明
申请(专利权)人:武汉科技大学
类型:发明
国别省市:

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