【技术实现步骤摘要】
本申请实施例涉及显示,具体而言,涉及一种发光二极管芯片及其制备方法。
技术介绍
1、micro-led(micro light-emitting diode,微发光二极管)因其高光效,稳定性,广泛应用于于各类显示器件中。但其本身存在一些问题,其中一个是micro-led小尺寸化(<20μm)后的光效下降,另一个为micro-led小尺寸化峰值效率对应电流密度右移的问题。
2、在相关技术中,通过采用纳米柱led方案,即通过微纳加工,实现纳米尺度led结构发光,减少应变造成的量子斯塔克效应、缺陷造成的非辐射复合,同时通过纳米尺度led光学设计,提升出光效率,解决micro-led随尺寸下降造成峰值效率下降及小电流密度下光效低的问题。
3、但是,在纳米柱led的制备过程中,由于工艺问题会存在导电层与led中的电极层的电性连接不稳定的问题。
技术实现思路
1、本申请实施例在于提供一种发光二极管芯片及其制备方法,旨在提高发光二极管芯片中导电层与电极层之间的连接性能稳定性。
...【技术保护点】
1.一种发光二极管芯片的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:
2.根据权利要求1所述的发光二极管芯片的制备方法,其特征在于:
3.根据权利要求1所述的发光二极管芯片的制备方法,其特征在于,在将所述导电层与包括多个发光体的所述外延层键合的步骤之中,所述制备方法包括:
4.根据权利要求3所述的发光二极管芯片的制备方法,其特征在于:
5.根据权利要求1所述的发光二极管芯片的制备方法,其特征在于:
6.根据权利要求5所述的发光二极管芯片的制备方法,其特征在于:
7.根据权利要求1所述的发光二极管芯片的
...【技术特征摘要】
1.一种发光二极管芯片的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:
2.根据权利要求1所述的发光二极管芯片的制备方法,其特征在于:
3.根据权利要求1所述的发光二极管芯片的制备方法,其特征在于,在将所述导电层与包括多个发光体的所述外延层键合的步骤之中,所述制备方法包括:
4.根据权利要求3所述的发光二极管芯片的制备方法,其特征在于:
5.根据权利要求1所述的发光二极管芯片的制备方法,其特征在于...
【专利技术属性】
技术研发人员:闫华杰,王明星,孙倩,高天航,赵加伟,张迎香,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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