一种发光二极管芯片及其制备方法技术

技术编号:44927310 阅读:29 留言:0更新日期:2025-04-08 19:07
本申请实施例提供一种发光二极管芯片及其制备方法,属于显示技术领域,包括:提供第一衬底;在所述第一衬底上生长外延层,并对所述外延层进行刻蚀工艺,形成阵列分布的多个发光体;提供第二衬底,并在所述第二衬底上形成导电层;将所述导电层与包括多个发光体的所述外延层键合;在所述导电层的一侧朝向所述外延层注入填充材料,使所述填充材料将各个所述发光体之间的间隙填充;去除所述第二衬底,并在所述外延层及所述导电层上形成键合电极。通过本申请实施例提供的一种发光二极管芯片及其制备方法,可以提高发光二极管芯片中导电层与电极层之间的连接性能稳定性。

【技术实现步骤摘要】

本申请实施例涉及显示,具体而言,涉及一种发光二极管芯片及其制备方法


技术介绍

1、micro-led(micro light-emitting diode,微发光二极管)因其高光效,稳定性,广泛应用于于各类显示器件中。但其本身存在一些问题,其中一个是micro-led小尺寸化(<20μm)后的光效下降,另一个为micro-led小尺寸化峰值效率对应电流密度右移的问题。

2、在相关技术中,通过采用纳米柱led方案,即通过微纳加工,实现纳米尺度led结构发光,减少应变造成的量子斯塔克效应、缺陷造成的非辐射复合,同时通过纳米尺度led光学设计,提升出光效率,解决micro-led随尺寸下降造成峰值效率下降及小电流密度下光效低的问题。

3、但是,在纳米柱led的制备过程中,由于工艺问题会存在导电层与led中的电极层的电性连接不稳定的问题。


技术实现思路

1、本申请实施例在于提供一种发光二极管芯片及其制备方法,旨在提高发光二极管芯片中导电层与电极层之间的连接性能稳定性。p>

2、本申请本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种发光二极管芯片的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:

2.根据权利要求1所述的发光二极管芯片的制备方法,其特征在于:

3.根据权利要求1所述的发光二极管芯片的制备方法,其特征在于,在将所述导电层与包括多个发光体的所述外延层键合的步骤之中,所述制备方法包括:

4.根据权利要求3所述的发光二极管芯片的制备方法,其特征在于:

5.根据权利要求1所述的发光二极管芯片的制备方法,其特征在于:

6.根据权利要求5所述的发光二极管芯片的制备方法,其特征在于:

7.根据权利要求1所述的发光二极管芯片的制备方法,其特征在于...

【技术特征摘要】

1.一种发光二极管芯片的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:

2.根据权利要求1所述的发光二极管芯片的制备方法,其特征在于:

3.根据权利要求1所述的发光二极管芯片的制备方法,其特征在于,在将所述导电层与包括多个发光体的所述外延层键合的步骤之中,所述制备方法包括:

4.根据权利要求3所述的发光二极管芯片的制备方法,其特征在于:

5.根据权利要求1所述的发光二极管芯片的制备方法,其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员:闫华杰王明星孙倩高天航赵加伟张迎香
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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