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压电MEMS谐振器以及电子元件制造技术

技术编号:44926281 阅读:21 留言:0更新日期:2025-04-08 19:06
本申请涉及半导体器件领域且提供一种压电MEMS谐振器以及电子元件。该谐振器包括盖帽晶圆和器件晶圆,盖帽晶圆包括盖帽层,器件晶圆包括:衬底层;设置于衬底层的谐振空腔;位于谐振空腔上侧的器件硅层;位于器件硅层上侧的压电层;位于压电层上侧的顶电极;以及位于顶电极上侧且覆盖顶电极的第一介质层,第一介质层与盖帽层键合连接,第一介质层的与盖帽层键合的至少一部分在竖直方向上的投影与顶电极在竖直方向上的投影重叠,第一介质层的至少与盖帽层键合的部分的上表面在同一平面内。由此,通过将覆盖顶电极的介质层的表面平坦化来提高盖帽晶圆和器件晶圆的键合特性,确保良好的键合效果。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及半导体器件领域,尤其涉及一种压电mems谐振器以及电子元件。


技术介绍

1、谐振器是振荡器的核心器件,由于静电驱动的硅基mems谐振器具有更小的尺寸,更低的制造成本和更高的可靠性,以由静电驱动的硅基mems谐振器为核心器件的mems振荡器随着日趋成熟的技术,有望成为传统石英振荡器的替代品。

2、随着压电薄膜材料的发展,相比于静电驱动的硅基mems谐振器,基于压电驱动的硅基mems谐振器(简称为“压电驱动硅基mems谐振器”)表现出更低的运动阻抗(motionalimpedance)和更高的机电耦合系数等优良性能,更加有利于降低振荡器的功耗和相位噪声。

3、压电驱动硅基mems谐振器由于不需要施加静电偏置电压,因此,减少了由供电电源抖动而对输出信号产生的误差项;另外,压电驱动硅基mems谐振器在加工中不需要形成亚微米级的硅层狭缝,降低了工艺难度,有利于提升器件良率,同时有利于器件进一步小型化。

4、压电驱动硅基mems谐振器常采用晶圆级封装结构,为了保证压电驱动硅基mems谐振器具有较小尺寸,通常通过盖帽晶圆中导本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种压电MEMS谐振器,所述谐振器包括盖帽晶圆和器件晶圆,其特征在于,所述盖帽晶圆包括盖帽层,

2.根据权利要求1所述的谐振器,其特征在于,

3.根据权利要求1所述的谐振器,其特征在于,

4.根据权利要求1所述的谐振器,其特征在于,

5.根据权利要求1所述的谐振器,其特征在于,

6.根据权利要求1所述的谐振器,其特征在于,

7.根据权利要求6所述的谐振器,其特征在于,

8.根据权利要求1所述的谐振器,其特征在于,

9.根据权利要求1所述的谐振器,其特征在于,

>10.根据权利要求...

【技术特征摘要】

1.一种压电mems谐振器,所述谐振器包括盖帽晶圆和器件晶圆,其特征在于,所述盖帽晶圆包括盖帽层,

2.根据权利要求1所述的谐振器,其特征在于,

3.根据权利要求1所述的谐振器,其特征在于,

4.根据权利要求1所述的谐振器,其特征在于,

5.根据权利要求1所述的谐振器,其特征在于,

6.根据权利要求1所述的谐振器,其特征在于,

7.根据权利要求6所述的谐振器,其特征在于,

8.根据权利要求1所述的谐振器,其特征在于,

9.根据权利要求1所述的谐振器,其特征在于,

10.根据权利要求1或9所述的谐振器,其特征在于,

11.根据权利要求1或9所述的谐振器,其特征在于,

12.根据权利要求1所述的谐振器...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨清瑞庞慰
申请(专利权)人:天津大学
类型:发明
国别省市:

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