一种LCD靶材的抛光处理方法技术

本发明专利技术提供了一种LCD靶材的抛光处理方法，所述的抛光处理方法包括：提供待处理靶材；采用第一砂纸对待处理靶材的表面进行旋转抛光，得到抛光面；利用第二砂纸对抛光面进行纹路拉直；所述第一砂纸的目数小于第二砂纸的目数。本发明专利技术保证靶材外表面的一致性，同时减少人工操作，提高了生产效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于靶材制作加工，涉及一种lcd靶材的抛光处理方法。

技术介绍

1、lcd(liquid crystal display，液晶显示)显示技术已经广泛应用于集成电路、平板显示、太阳能电池、记录媒体、智能玻璃等领域。lcd经过长时间的发展，产品品质不断提升，对lcd靶材的要求随之提高。在lcd的制作中，通常利用加速粒子轰击靶材表面，使得靶材原子沉积在靶材基底表面，从而形成沉积薄膜，因此，所使用靶材的质量对于镀膜合格率是非常重要的。

2、目前，针对于靶材外表面的异物、非靶材一体物质的去除，一般直接采用手工砂纸抛光，加工时间在10h，浪费人工、效率较低，并且手工砂纸抛光难去除，粗糙度不稳定，导致产品的一致性较差。此外，手工抛光过程中产生粉尘较大，严重影响了工作环境。

3、因此，如何能够在加工过程中彻底去除靶材表面异物，同时减少人工消耗是目前技术人员需要解决的问题。

技术实现思路

1、针对现有技术存在的不足，本专利技术的目的在于提供一种lcd靶材的抛光处理方法，对lcd靶材表面进行两次本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种LCD靶材的抛光处理方法，其特征在于，所述的抛光处理方法包括：

2.根据权利要求1所述的抛光处理方法，其特征在于，所述待处理靶材的表面为侧表面和/或溅射面。

3.根据权利要求2所述的抛光处理方法，其特征在于，所述侧表面与溅射面的材质分别独立地包括铜、铝、钼、钽或钛中的任意一种或至少两种的组合；

4.根据权利要求1所述的抛光处理方法，其特征在于，所述第一砂纸的目数为100～150目；

5.根据权利要求1所述的抛光处理方法，其特征在于，所述旋转抛光包括：将第一砂纸贴附在气动抛光机的碾盘上，打磨待处理靶材的表面；>

6.根据权利...

【技术特征摘要】

1.一种lcd靶材的抛光处理方法，其特征在于，所述的抛光处理方法包括：

2.根据权利要求1所述的抛光处理方法，其特征在于，所述待处理靶材的表面为侧表面和/或溅射面。

3.根据权利要求2所述的抛光处理方法，其特征在于，所述侧表面与溅射面的材质分别独立地包括铜、铝、钼、钽或钛中的任意一种或至少两种的组合；

4.根据权利要求1所述的抛光处理方法，其特征在于，所述第一砂纸的目数为100～150目；

5.根据权利要求1所述的抛光处理方法，其特征在于，所述旋转抛光包括：将第一砂纸贴附在气动抛光机的碾盘上，打磨待处理靶材的表面；

6.根据权利要求2或3所述的抛光处理方法，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚力军，孙海封，窦兴贤，王青松，
申请(专利权)人：合肥江丰电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：