【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及显示,具体而言,涉及一种显示面板及显示装置。
技术介绍
1、fmloc(flexible multi-layer on cell)设计目前在oled触控显示领域已是主流。fmloc设计是指在显示基板的封装层上制作金属电极层,金属电极层的表面对环境光反射显著。
2、为减小环境光反射提高对比度,在发光层远离驱动背板的一侧设置彩膜层和/或光路调控层,导致显示面板的厚度较大,不利于显示面板的轻薄化。
3、需要说明的是,在上述
技术介绍
部分专利技术的信息仅用于加强对本专利技术的背景的理解,因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于克服上述现有技术的不足,提供一种显示面板及显示装置。
2、根据本专利技术的一个方面,提供一种显示面板,该显示面板包括驱动背板、像素界定层、多个像素电极、不同颜色的多个发光单元、公共电极、第一触控电极层、第一覆盖层、滤光层和遮光层,像素界定层设于驱动背板的一侧,像素界定层
...【技术保护点】
1.一种显示面板,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述滤光单元自所述第一覆盖部的侧面延伸至所述第一覆盖部远离所述驱动背板的一面。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,当所述遮光单元设于所述第一触控单元与所述第一覆盖部之间时,所述第一覆盖部的侧面包括第一斜面、平直面和第二斜面,所述第一斜面的坡度角为30-50度,所述平直面设于所述第一斜面远离所述驱动背板的一端,所述平直面与所述驱动背板的表面相互平行,所述第二斜面设于所述平直面远离所述第一斜面的一端,所述第二斜面的坡度角为45-75度。
4.
...【技术特征摘要】
1.一种显示面板,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述滤光单元自所述第一覆盖部的侧面延伸至所述第一覆盖部远离所述驱动背板的一面。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,当所述遮光单元设于所述第一触控单元与所述第一覆盖部之间时,所述第一覆盖部的侧面包括第一斜面、平直面和第二斜面,所述第一斜面的坡度角为30-50度,所述平直面设于所述第一斜面远离所述驱动背板的一端,所述平直面与所述驱动背板的表面相互平行,所述第二斜面设于所述平直面远离所述第一斜面的一端,所述第二斜面的坡度角为45-75度。
4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括钝化层,所述钝化层设于所述第一触控电极层远离所述驱动背板的一侧,所述钝化层覆盖多个所述第一触控单元。
5.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,当所述遮光单元设于所述第一覆盖部远离所述驱动背板的一侧时,所述第一覆盖部的侧面为斜面,所述第一覆盖层的侧面的坡度角为55-85度。
6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述滤光单元设于所述第一覆盖部远离所述驱动背板的一面,所述滤光单元在所述驱动背板上的正投影位于所述透光开口在所述驱动背板上的正投影内。
7.根据权利要求6所述的显示面板,其特征在于,所述遮光单元的边缘与所述滤光单元的边缘之间的距离为1-3μm,不同颜色的滤光单元与相邻所述遮光单元之间的距离相等。
8.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,不同所述滤光单元的折射率越大,所述滤光单元靠近驱动背板的一面的边缘与所述发光单元靠近驱动背板的一面的边缘之间的距离越大。
9.根据权利要求8所述的显示面板,其特征在于,不同颜色的多所述个发光单元包括红色发光单元、绿色发光单元和蓝色发光单元,不同颜色的滤光单元包括红色滤光单元、绿色滤光单元和蓝色滤光单元,所述红色滤光单元在所述驱动背板上的正投影覆盖所述红色发光单元在所述驱动背板上的正投影,所述绿色滤光单元在所述驱动背板上的正投影覆盖所述绿色发光单元在所述驱动背板上的正投影,所述蓝色滤光单元在所述驱动背板上的正投影覆盖所述蓝色发光单元在所述驱动背板上的正投影。
10.根据权利要求9所述的显示面板,其特征在于,所述红色滤光单元靠近驱动背板的一面的边缘与所述红色发光单元靠近驱动背板的一面的边缘之间的距离为第一外扩距离,所述绿色滤光单元靠近驱动背板的一面的边缘与所述绿色发光单元靠近驱动背板的一面的边缘之间的距离为第二外扩距离,所述蓝色滤光单元靠近驱动背板的一面的边缘与所述蓝色发光单元靠近驱动背板的一面的边缘之间的距离为第三外扩距离,所述红色滤光单元的折射率为1.65-1.85,所述绿色滤光单元的折射率和所述蓝色滤光单元的折射率为1.55-1.7,所述第一外扩距离为1-3μm、所述第二外扩距离为0-2μm,所述第三外扩距离的比值为0-2μm。
11.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述滤光单元在所述驱动背板上的正投影覆盖所述透光开口在所述驱动背板上的正投影。
12.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,相邻两个所述滤光单元延伸至...
【专利技术属性】
技术研发人员:石博,胡明,董向丹,宋江,张毅,付健吉,谭远浩,李沁科,苏洋,何颖,唐国强,倪子博,李春延,储小东,邱海军,左凯龙,陈友春,邱裕恒,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,
类型:新型
国别省市:
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