【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及x射线系统、控制器、操作x射线系统的方法、用于控制x射线系统的计算机程序单元、用于控制控制器的计算机程序单元，以及计算机可读介质。
技术介绍
1、一些用于医学ct成像的x射线管使用静电电子束形成与温度限制发射的组合。发射电流取决于灯丝温度。虽然发射电流是经由灯丝温度来控制的，但管电压和聚焦格栅电极电压也会影响发射。
2、在kvp切换(kvp-s)中，管电压在相继的采集间隔之间切换(例如，80kv和140kv)。x射线的生成对于高电压效率要高得多。在相同灯丝温度下，80kv与140kv管的x射线输出剂量之差很容易变得高至7倍。对于能谱成像，低kv和高kv间隔的通量应大致相同，以获得良好的能谱材料分离。在某些情况下，低kv和高kv之间的通量不平衡可以通过低管电压的较长积分时段来部分地补偿。
3、当需要足够高的x射线剂量时，使用高机架旋转速度和高速度进行kvp-s成像会出现特定问题。然后需要快速成像，其中，针对投影的采集时间较短，其中探测器的积分时段(ip)必须很短。为了在较短的ip时间内递送所需的x射线...
【技术保护点】
1.一种X射线系统(10)，包括：
2.根据权利要求1所述的系统，其中，在所述阳极与所述阴极之间施加所述第二高电压期间，所述控制器被配置为控制所述至少一个低中压电源来以正弦调制周期性地在所述阳极上移动所述第二尺寸的所述聚焦电子束。
3.根据权利要求1所述的系统，其中，在所述阳极与所述阴极之间施加所述第二高电压期间，所述控制器被配置为控制所述至少一个低中压电源来以方波调制周期性地在所述阳极上移动所述第二尺寸的所述聚焦电子束。
4.根据前述权利要求中的任一项所述的系统，其中，在所述阳极与所述阴极之间施加所述第一高电压期间，所述控制器被配...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种x射线系统(10)，包括：
2.根据权利要求1所述的系统，其中，在所述阳极与所述阴极之间施加所述第二高电压期间，所述控制器被配置为控制所述至少一个低中压电源来以正弦调制周期性地在所述阳极上移动所述第二尺寸的所述聚焦电子束。
3.根据权利要求1所述的系统，其中，在所述阳极与所述阴极之间施加所述第二高电压期间，所述控制器被配置为控制所述至少一个低中压电源来以方波调制周期性地在所述阳极上移动所述第二尺寸的所述聚焦电子束。
4.根据前述权利要求中的任一项所述的系统，其中，在所述阳极与所述阴极之间施加所述第一高电压期间，所述控制器被配置为控制所述至少一个低中压电源来以第一操作模式操作所述聚焦格栅电极，其中，在所述阳极与所述阴极之间施加所述第二高电压期间，所述控制器被配置为控制所述至少一个低中压电源来以第二操作模式操作所述聚焦格栅电极，其中，所述控制器被配置为控制所述高压电源将被施加在所述阳极与所述阴极之间的所述电压从所述第一高电压改变为所述第二高电压，并且其中，当所述电压处于所述第一高电压与所述第二高电压之间的设置电压时，所述控制器被配置为将所述聚焦格栅电极的所述操作从所述第一操作模式切换到所述第二操作模式。
5.根据权利要求4所述的系统，当其从属于权利要求2或权利要求3时，其中，所述控制器被配置为在被施加在所述阳极与所述阴极之间的所述电压从所述设置电压改变为所述第二高电压期间控制所述正弦调制的幅值差或控制所述方波调制的幅值差。
6.根据权利要求5所述的系统，其中，所述正弦波调制的所述幅值差或所述方波调制的所述幅值差与被施加在所述阳极与所述阴极之间的所述电压...
【专利技术属性】
技术研发人员：R·普罗克绍，R·魏布斯，
申请(专利权)人：皇家飞利浦有限公司，
类型：发明
国别省市：
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