【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于烧结磁体的制备领域,尤其涉及一种hre靶材、制备方法以及使用hre靶材制备磁体的方法。
技术介绍
1、钕铁硼磁体由于其高磁能积(bh)max而广泛应用于永磁电机中。但是在实际应用中,当电机运行温度超过150℃时,钕铁硼磁体的性能迅速下降。为了有效改善烧结钕铁硼磁体磁性能,晶界扩散技术已经崭露头角,能较好的提升烧结钕铁硼磁体的磁性能。
2、晶界扩散工艺已演变出多种创新应用方式,包括溅射、电泳沉积、涂覆、蒸镀等。其中,蒸镀分为静态蒸镀和旋转蒸镀两种方式,静态蒸镀在扩散源沉积与磁体扩散同步进行时,需特殊工装保持镀距,导致工艺复杂、生产效率低且成膜一致性较差。而旋转蒸镀则通过在旋转炉中放置小磁体和重稀土靶材,通过旋转和高温使重稀土金属沉积到磁体表面,具有设备投资少、效率高的优势,更适合商业化和规模化生产。
3、目前,在旋转蒸镀过程中,所用的重稀土靶材通常为球状或块状,这种形状有助于磁体在旋转时的各个表面均能与靶材接触,适用于多种形状的小尺寸磁体进行晶界扩散。然而,随着靶材的反复使用,球状或块状靶材表面逐渐变
...【技术保护点】
1.一种HRE靶材的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
2.如权利要求1所述的HRE靶材的制备方法,其特征在于,所述表面处理为:预倒角0.1mm,并通过5%硝酸溶液进行酸洗去除HRE靶材表面氧化物。
3.如权利要求1所述的HRE靶材的制备方法,其特征在于:所述HRE靶材的纯度为99.5%-99.9%,厚度0.5mm-1mm。
4.如权利要求1所述的HRE靶材的制备方法,其特征在于:所述重稀土金属为Tb或Dy。
5.一种使用如权利要求1至4任一项所述方法制备的HRE靶材。
6.一种利用如权利要求5所述的HRE
...【技术特征摘要】
1.一种hre靶材的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
2.如权利要求1所述的hre靶材的制备方法,其特征在于,所述表面处理为:预倒角0.1mm,并通过5%硝酸溶液进行酸洗去除hre靶材表面氧化物。
3.如权利要求1所述的hre靶材的制备方法,其特征在于:所述hre靶材的纯度为99.5%-99.9%,厚度0.5mm-1mm。
4.如权利要求1所述的hre靶材的制备方法,其特征在于:所述重稀土金属为tb或dy。
5.一种使用如权利要求1至4任一项所述方法制备的hre靶材。
6.一种利用如权利要求5所述的hre靶材制备磁体的方法,其...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘祥,胡智勇,
申请(专利权)人:苏州磁亿电子科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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