【技术实现步骤摘要】
本申请涉及等离子体发生设备，特别涉及一种等离子体喷枪及清洗装置。
技术介绍
1、一些产品在生产过程中需要对其进行表面处理，例如，对产品的表面进行清洗、喷涂或者蚀刻等；为了达到较好的处理效果以及减小对产品的损伤，可使用等离子体喷枪对产品的进行表面处理，喷枪的内部与气源连通以通入气体，喷枪内部的电极能够电离气体形成等离子体，而后喷枪将等离子体喷射至产品的表面，以对产品的进行表面处理。相关技术中，喷枪的内部呈直筒状，气流容易形成紊流，导致电离不充分，影响处理效果。
技术实现思路
1、本申请旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本申请提出一种等离子体喷枪，能够使气体有序稳定流动，从而使电离充分，以提高处理效果。
2、本申请还提出一种具有上述等离子体喷枪的清洗装置。
3、根据本申请的第一方面实施例的等离子体喷枪，包括：枪体、导流部、喷头。
4、枪体具有进气口和出口，且所述枪体在所述进气口和所述出口之间形成电离区；所述进气口用于与气源连接，所述电离区用于将进入所述枪体内的气体电离形成等离子体，所述出口用于将等离子体喷出；
5、导流部设置于所述枪体的内部，且位于所述进气口和所述电离区之间，所述导流部形成有多条螺旋状的导流通道，且多条所述导流通道沿圆周方向分布，所述导流通道连通所述进气口和所述电离区；
6、喷头设置于所述枪体，所述喷头形成有喷射通道，所述喷射通道与所述出口连通。
7、根据本申请的第一方面实施例的等离子
8、根据本申请的一些实施例，还包括旋转机构，旋转机构驱动连接所述枪体，用于使所述枪体自转，其中，所述枪体的自转方向与气体通过所述导流通道时的旋转方向一致。
9、根据本申请的一些实施例，所述导流部的内部形成所述导流通道。
10、根据本申请的一些实施例，所述导流部靠近所述电离区的一端形成扩口结构，所述导流通道与所述扩口结构内径较小的一端连通。
11、根据本申请的一些实施例，所述导流部的外周面形成导流通道，所述枪体的内壁构成所述导流通道部分壁面。
12、根据本申请的一些实施例，所述导流部朝向所述出口的一侧设置有凸块，且沿所述进气口至所述出口的方向，所述凸块的外径逐渐减小，且所述枪体的内壁对应所述凸块的位置形成第一缩口结构。
13、根据本申请的一些实施例，还包括至少两块导流板，所述导流板上形成有导流孔，所述导流板设置于所述枪体的内部，且位于所述进气口和所述导流部之间，相邻的两个所述导流板中，靠近所述进气口的所述导流板上的所述导流孔的孔径比靠近所述出口的所述导流板上的所述导流孔的孔径大。
14、根据本申请的一些实施例，相邻的两个所述导流板中，靠近所述进气口的所述导流板上的所述导流孔的数量比靠近所述出口的所述导流板上的所述导流孔的数量少。
15、根据本申请的一些实施例，所述喷射通道倾斜设置。
16、根据本申请的一些实施例，所述喷头上形成有配重槽，所述配重槽和所述喷射通道分布在所述喷头的两侧，以平衡所述喷头。
17、根据本申请的一些实施例，沿所述喷射通道的喷射方向，所述喷射通道的内径逐渐减小。
18、根据本申请的第二方面实施例的清洗装置，包括第一方面实施例的等离子体喷枪。
19、根据本申请的第二方面实施例的清洗装置，至少具有如下有益效果：应用上述第一方面实施例的等离子体喷枪对产品的表面进行清洗，提高对产品表面的清洗效果
20、本申请的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。
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1.等离子体喷枪，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的等离子体喷枪，其特征在于，还包括旋转机构(400)，驱动连接所述枪体(100)，用于使所述枪体(100)自转，其中，所述枪体(100)的自转方向与气体通过所述导流通道(210)时的旋转方向一致。
3.根据权利要求1所述的等离子体喷枪，其特征在于，所述导流部(200)的内部形成所述导流通道(210)。
4.根据权利要求3所述的等离子体喷枪，其特征在于，所述导流部(200)靠近所述电离区(130)的一端形成扩口结构(230)，所述导流通道(210)与所述扩口结构(230)内径较小的一端连通。
5.根据权利要求1所述的等离子体喷枪，其特征在于，所述导流部(200)的外周面形成导流通道(210)，所述枪体(100)的内壁构成所述导流通道(210)部分壁面。
6.根据权利要求1所述的等离子体喷枪，其特征在于，所述导流部(200)朝向所述出口(120)的一侧设置有凸块(220)，且沿所述进气口(110)至所述出口(120)的方向，所述凸块(220)的外径逐渐减小，且所述枪
7.根据权利要求1所述的等离子体喷枪，其特征在于，还包括至少两块导流板(500)，所述导流板(500)上形成有导流孔(510)，所述导流板(500)设置于所述枪体(100)的内部，且位于所述进气口(110)和所述导流部(200)之间，相邻的两个所述导流板(500)中，靠近所述进气口(110)的所述导流板(500)上的所述导流孔(510)的孔径比靠近所述出口(120)的所述导流板(500)上的所述导流孔(510)的孔径大。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的等离子体喷枪，其特征在于，沿所述喷射通道(330)的喷射方向，所述喷射通道(330)的内径逐渐减小。
9.根据权利要求1至7中任一项所述的等离子体喷枪，其特征在于，所述喷射通道(330)倾斜设置。
10.根据权利要求9所述的等离子体喷枪，其特征在于，所述喷头(300)上形成有配重槽(310)，所述配重槽(310)和所述喷射通道(330)分布在所述喷头(300)的两侧，以平衡所述喷头(300)。
11.清洗装置，其特征在于，包括权利要求1至10中任一项所述的等离子体喷枪。
...【技术特征摘要】
1.等离子体喷枪，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的等离子体喷枪，其特征在于，还包括旋转机构(400)，驱动连接所述枪体(100)，用于使所述枪体(100)自转，其中，所述枪体(100)的自转方向与气体通过所述导流通道(210)时的旋转方向一致。
3.根据权利要求1所述的等离子体喷枪，其特征在于，所述导流部(200)的内部形成所述导流通道(210)。
4.根据权利要求3所述的等离子体喷枪，其特征在于，所述导流部(200)靠近所述电离区(130)的一端形成扩口结构(230)，所述导流通道(210)与所述扩口结构(230)内径较小的一端连通。
5.根据权利要求1所述的等离子体喷枪，其特征在于，所述导流部(200)的外周面形成导流通道(210)，所述枪体(100)的内壁构成所述导流通道(210)部分壁面。
6.根据权利要求1所述的等离子体喷枪，其特征在于，所述导流部(200)朝向所述出口(120)的一侧设置有凸块(220)，且沿所述进气口(110)至所述出口(120)的方向，所述凸块(220)的外径逐渐减小，且所述枪体(100)的内壁对应所述凸块(220)...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈俊桂，莫贵富，张乙峰，
申请(专利权)人：广东安达智能装备股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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