一种连接器端子镀金钯镍方法技术

技术编号:44834408 阅读:23 留言:0更新日期:2025-04-01 19:34
本申请涉及金属表面处理技术领域,公开了一种连接器端子镀金钯镍方法,包括以下步骤:预处理:对待镀的连接器端子进行清洁;配置电镀溶液:制备电镀溶液,用于生成合金相;脉冲电流电镀:采用脉冲电流法,形成合金层;电镀过程调控:抑制杂质吸附;后处理:完成电镀后,对镀层进行清洗和干燥处理。通过弱酸活化预处理和脉冲电流电镀技术,本发明专利技术清洁并活化端子表面,去除油脂和氧化层,增强基体表面活性,同时利用脉冲电流法实现金属离子的均匀沉积与晶粒细化,显著提升镀层与基体的结合强度。相比传统直流电镀易导致粘附性差及裂纹剥落的问题,本发明专利技术有效解决了粘附不足的技术瓶颈,确保连接器端子长期服役下的电气性能稳定性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及金属表面处理,具体为一种连接器端子镀金钯镍方法


技术介绍

1、在电子元件制造领域,连接器端子作为关键部件,其性能直接影响设备的电气连接稳定性和长期可靠性。传统上,端子表面多采用单一金属镀层(如金、银或镍)进行保护和导电处理。然而,这类镀层的粘附性较差,特别是在高温、高湿等极端环境中,容易因热胀冷缩导致裂纹或剥落,从而显著影响端子与基体之间的结合强度。同时,传统单一金属镀层的抗腐蚀能力不足,在恶劣环境中容易发生氧化或腐蚀,导致接触电阻增大,最终影响信号传输质量和设备性能。

2、近年来,为提升镀层性能,多元素共沉积技术逐渐引起关注。通过沉积多种金属元素的复合镀层,可以一定程度上改善传统单一金属镀层的粘附性和耐腐蚀性能,增强其适应复杂环境的能力。然而,多元素共沉积技术的实际应用仍面临诸多技术瓶颈。特别是在镀液成分控制和工艺参数调控方面,现有技术难以实现金属离子的均匀沉积与晶粒细化,导致镀层粘附性不足、性能不稳定等问题。此外,镀层在长期服役过程中易因缺陷累积而出现剥落现象,限制了其在高性能电子元件中的应用。

<p>3、部分研究提出本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种连接器端子镀金钯镍方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种连接器端子镀金钯镍方法,其特征在于,所述清洁采用超声波清洗技术去污,且超声频率:60~80kHz,清洗时间:3~10min,清洗液温度:50~60℃,超声功率密度:1~2W/cm²。

3.根据权利要求1所述的一种连接器端子镀金钯镍方法,其特征在于,弱酸溶液包括以下一种或多种:柠檬酸溶液、草酸溶液、磷酸溶液和硼酸溶液,浸泡时间为:1~3min,且浸泡结束后立即进行清洗和干燥。

4.根据权利要求1所述的一种连接器端子镀金钯镍方法,其特征在于,所述制备电镀溶液中,金、钯和...

【技术特征摘要】

1.一种连接器端子镀金钯镍方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种连接器端子镀金钯镍方法,其特征在于,所述清洁采用超声波清洗技术去污,且超声频率:60~80khz,清洗时间:3~10min,清洗液温度:50~60℃,超声功率密度:1~2w/cm²。

3.根据权利要求1所述的一种连接器端子镀金钯镍方法,其特征在于,弱酸溶液包括以下一种或多种:柠檬酸溶液、草酸溶液、磷酸溶液和硼酸溶液,浸泡时间为:1~3min,且浸泡结束后立即进行清洗和干燥。

4.根据权利要求1所述的一种连接器端子镀金钯镍方法,其特征在于,所述制备电镀溶液中,金、钯和镍的摩尔比为0.9~1.1:0.3~0.6:1.8~2.2,钼与钨的摩尔比为0.05~0.15:0.85~0.95。

【专利技术属性】
技术研发人员:祁富安张芮
申请(专利权)人:万明电镀智能科技东莞有限公司
类型:发明
国别省市:

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