本技术涉及清洗技术领域，具体涉及一种硅片清洗装置，本装置包括：设备主体，其两侧设有通流空间；其中所述设备主体上下分割设置有清洗主槽和清洗副槽；所述清洗主槽内沿其长度方向设置有传送机构；以及所述清洗主槽和清洗副槽之间连接有流通部，所述流通部与通流空间相通，使液体在清洗主槽和清洗副槽循环流动以清洗硅片。通过在设备主体内将主槽下方设副槽，并且其主槽与副槽之间连接流通部与所述通流空间连通，对传送机构进行液体的溢流和循环，可以确保清洗液更均匀地接触硅片，提高整体的清洗效率，减少了清洗过程中的生产成本。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及清洗，具体涉及一种硅片清洗装置。
技术介绍
1、制作太阳能电池的过程中预洗流程可以改善硅片表面的清洁质量，有助于制绒后形成均匀一致的绒面结构，从而提高太阳能电池的光电转换效率；传统的硅片制绒前预洗设备中，主副清洗槽以分体形式设计，每个槽都需要自己的独立空间，这可能导致整体设备的体积较大，多个独立的清洗槽可能导致设备布局复杂，且清洁液体单向流动，不能使洗液均匀地传递到硅片的每个部分，导致槽内不同区域的水质和清洗效果出现差异，使得清洗效果不佳，可能需要使用更多的水和清洗剂来重复清洗过程，从而增加水资源和原材料的消耗。
2、因此，为了解决由于采用分体式清洗槽使得液体单流动路径单一，不能将清洗液均匀地传递到硅片导致清洁力不佳的技术问题，需要设计一种硅片清洗装置。
技术实现思路
1、为了解决
技术介绍
中提及的技术问题，本技术提供了一种硅片清洗装置，包括：
2、设备主体，其两侧设有通流空间；其中
3、所述设备主体上下分割设置有清洗主槽和清洗副槽；
>4、所述清洗主槽内本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种硅片清洗装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于，
4.根据权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于，
5.根据权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于，
6.根据权利要求5所述的硅片清洗装置，其特征在于，
7.根据权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于，
8.根据权利要求7所述的硅片清洗装置，其特征在于，
【技术特征摘要】
1.一种硅片清洗装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于，
4.根据权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于，
【专利技术属性】
技术研发人员：任金枝，左国军，周董娟，申斌，成旭，谈丽文，
申请(专利权)人：常州捷佳创精密机械有限公司，
类型：新型
国别省市：
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