像素界定层制备方法技术

本发明专利技术涉及像素界定层制备方法，目的在于在电极基板上实现具有一定粗糙度值的着色图案，从而减少空穴传输层后道工艺中剥离的同时，使显示器提高可靠性，延长寿命。可以根据本发明专利技术，实施后烘处理时，置于高温，将表面的流动减至最少，从而具有一定粗糙度。本发明专利技术在电极基板上实现含水量低的着色图案，从而使色彩变鲜明的同时，使显示器提高可靠性，延长寿命。包含本发明专利技术所述的着色剂，使后烘处理工艺完毕后的含水量达到最少，给予后烘处理步骤足够的热与时间，从而使面板状态中水分的产生达到最少。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种利用感光性组合物制备发光显示装置像素界定层的方法。

技术介绍

1、平板显示装置广泛应用液晶显示装置(lcd:liquid crystal display device)、有机发光显示装置(oled:organic light emitting display device)等。其中，有机发光显示装置具有功耗低、响应速度快、色彩再现率高、亮度高、视野角度宽大等优点。

2、所述有机发光显示装置采用偏光膜的目的在于，遮蔽入射外界光后，从面板反射的光。其弊端在于：由于弯曲特性的缺失，不适用于将所述偏光膜应用在柔性设备时。

3、为了解决上述问题，以往建议采用滤色片和黑色矩阵以及上部基板上形成遮光无机膜的方法等。但，该方法在获得所愿水平的防止反射效果方面，具有局限性，且没有具体提供代替偏光膜的方法。

4、另外，着色遮光层，特别是，黑色遮光层在液晶显示装置用于阻挡红色、绿色、蓝色滤光片之间的颜色干扰，以提高影像品质。最近，为了在有机发光显示器中也达到相同的目的以及以低反射率提高影像可见性，正在研究如何使用所述着色遮光本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种像素界定层制备方法，其特征在于：

2.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述后烘处理步骤的烤箱温度为230至270℃。

3.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述后烘处理步骤的实施时间为60分钟至120分钟。

4.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述后烘处理后，表面粗糙度为1.48nm至2.7nm。

5.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述感光性组合物包含着色剂。

6.根据权利要求5所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述着色剂包含无机染料、有...

【技术特征摘要】

1.一种像素界定层制备方法，其特征在于：

2.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述后烘处理步骤的烤箱温度为230至270℃。

3.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述后烘处理步骤的实施时间为60分钟至120分钟。

4.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述后烘处理后，表面粗糙度为1.48nm至2.7nm。

5.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述感光性组合物包含着色剂。

6.根据权利要求5所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述着色剂包含无机染料、有机染料、无机颜料及有机颜料中一种以上。

7.根据权利要求5所述的像素界定层制备方法，其特征在于：感光性组合物的总量中，所述着色剂的含量为1至40重量％。

8.根据权利要求5所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述着色剂利用分散剂；或水溶性无机盐及润湿剂；进行预处理。

9.根据权利要求5所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述着色剂的平均粒径为20nm至110nm。

10.根据权利要求1所述的像素界定层制备方法，其特征在于：所述感光性组合物包含图案成形用树脂，该图案成形用树脂包含丙烯酸系粘结剂树脂、ca...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵贤相，金俊基，金庆洙，李昌珉，李连洙，裵俊，崔慧贞，徐汉昱，林宰贤，全书呈，文成允，
申请(专利权)人：德山新勒克斯有限公司，
类型：发明
国别省市：