一种软硬X射线共聚焦的宽能区光电子能谱系统技术方案

技术编号:44744575 阅读:14 留言:0更新日期:2025-03-26 12:34
本发明专利技术涉及一种软硬X射线共聚焦的宽能区光电子能谱系统,包括依次设置的第一波荡器、第二波荡器和白光偏转镜,第一波荡器提供硬X射线光,形成硬X光束通过的第一光路;第二波荡器提供软X射线光,白光偏转镜用于对第二波荡器提供的软X射线光进行偏转,偏转后形成软X光束通过的第二光路;在第一光路上,沿硬X光束的传输方向依次设置有第一狭缝、第一偏转聚焦镜、第一单色器、第二单色器和第二偏转聚焦镜;在第二光路上,沿软X光束的传输方向依次设置有第二狭缝、第三单色器和第三偏转聚焦镜;经第二偏转聚焦镜偏转聚焦后的硬X光束和经第三偏转聚焦镜偏转聚焦后的软X光束共同照射至样品处,样品后设置有电子能量分析器。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及同步辐射x射线谱学装置领域,更具体地涉及一种软硬x射线共聚焦的宽能区光电子能谱系统。


技术介绍

1、x射线光电子能谱(x ray photoemission spectroscopy,简称xps)因其具有极好的表面灵敏性和元素灵敏性,是众多领域广泛应用的一项表征技术,其通过光子激发样品并探测逃逸光电子的内在信息(即光电效应),来实现对样品表面元素组分和化学态定性定量分析的无损探测。传统的xps采用软x射线作为光源(软x射线一般指光子能量低于2000ev),其分析深度一般是表面10nm以内,具有鲜明的表界面灵敏特征。然而,传统的xps无法直接实现涉及更深埋层界面和体相结构的深度分析,一般需要借助离子束刻蚀的方法来进行。但基于离子刻蚀的xps深度分析是一个样品破坏的分析过程,不可避免地导致化学态的破坏而产生假象。

2、根据从样品表面逃逸光电子的非弹性散射平均自由程(imfp)与其动能的关系可知,当逃逸光电子的动能在100ev以上时,其imfp与动能呈现准线性关系。为了增大光电子的逃逸深度,在无损伤的情况下实现对样品的深度分析,一个简单本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种软硬X射线共聚焦的宽能区光电子能谱系统,其特征在于,包括依次设置的第一波荡器、第二波荡器和白光偏转镜,所述第一波荡器用于提供硬X射线光,形成硬X光束通过的第一光路;所述第二波荡器用于提供软X射线光,所述白光偏转镜用于对所述第二波荡器提供的软X射线光进行偏转,偏转后形成软X光束通过的第二光路;

2.根据权利要求1所述的软硬X射线共聚焦的宽能区光电子能谱系统,其特征在于,所述第一波荡器采用波荡器IVU24,以提供1500 eV-18000eV能量范围的光子。

3.根据权利要求1所述的软硬X射线共聚焦的宽能区光电子能谱系统,其特征在于,所述第二波荡器采用波荡器E...

【技术特征摘要】

1.一种软硬x射线共聚焦的宽能区光电子能谱系统,其特征在于,包括依次设置的第一波荡器、第二波荡器和白光偏转镜,所述第一波荡器用于提供硬x射线光,形成硬x光束通过的第一光路;所述第二波荡器用于提供软x射线光,所述白光偏转镜用于对所述第二波荡器提供的软x射线光进行偏转,偏转后形成软x光束通过的第二光路;

2.根据权利要求1所述的软硬x射线共聚焦的宽能区光电子能谱系统,其特征在于,所述第一波荡器采用波荡器ivu24,以提供1500 ev-18000ev能量范围的光子。

3.根据权利要求1所述的软硬x射线共聚焦的宽能区光电子能谱系统,其特征在于,所述第二波荡器采用波荡器epu60,以提供130 ev-1500ev能量范围的光子。

4.根据权利要求1所述的软硬x射线共聚焦的宽能区光电子能谱系统,其特征在于,所述第一波荡器和所述第二波荡器之间的夹角设置为2mrad。

5.根据权利要求1所述的软硬x射线共聚焦的宽能区光电子能谱系统,其特征在于,所述第一单色器采用液氮光栅单色器,以对光子能量在1500ev~2500ev范围内的硬x射线光进行单色化;所述第二单色器采用液氮双晶单色器,以对光子能量...

【专利技术属性】
技术研发人员:宋飞梁兆峰邹鹰谢磊陈振华
申请(专利权)人:中国科学院上海高等研究院
类型:发明
国别省市:

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