光学材料用树脂组合物、光学材料用树脂薄膜及使用了这些的光波导制造技术

本发明专利技术涉及含有（Ａ）羧酸改性酚氧树脂、（Ｂ）聚合性化合物和（Ｃ）聚合引发剂而成的光学材料用树脂组合物，由该树脂组合物组成的光学材料用树脂薄膜以及具有利用这些而形成的芯部和／或包层的光波导。本发明专利技术提供耐热性和透明性优异，且可溶于碱性水溶液的光学材料用树脂组合物，由该树脂组合物组成的光学材料用树脂薄膜以及使用这些而制造的光波导。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及光学材料用树脂组合物、光学材料用树脂薄膜及使用了这些的光波导，尤其涉及耐热性和透明性优异，且可溶于碱性水溶液的光学材料用树脂组合物，由该树脂组合物制成的光学材料用树脂薄膜及使用了这些的光波导。
技术介绍
近年，在电子元件间或配线基板间的高速、高密度信号传输中，就以往的依靠电气配线的传输而言，信号的相互干涉或衰减成为障碍，开始看得到高速、高密度化的极限。为了打破这一极限正在研究用光连接电子元件间或配线基板间的技术，即所谓光互联。作为光的传输路从加工的容易性、低成本、配线的自由度高、且可以高密度化的角度出发，聚合物光波导正在受到关注。作为聚合物光波导的形态，正在研究的有设想适用于光电混载基板的在玻璃环氧树脂基板上制作的类型、设想连接板彼此的不具有硬支持基板的柔软的类型。 从适用的机器的使用环境或部件安装等观点出发，对于聚合物光波导要求高透明性(低传播损耗)的同时也要求高耐热性，作为这样的光波导材料，已知的有(甲基)丙烯酸聚合物(例如参考专利文献1和2)。可是，虽然(甲基)丙烯酸聚合物对波长850nm具有0.3dB/cm的高透明性，但是耐热性的评价不明确，例如，关于回流焊锡实验后的光传播损耗等具体的实验结果没有具体的记述。 作为耐热性优异、且可以用碱性水溶液显影的感光性树脂组合物，已知的有含有羧酸改性酚氧树脂的树脂组合物(例如参考专利文献3和4)。但是，这类树脂组合物是针对印刷电路板制造工艺中的电镀保护层而专利技术的物质，虽然耐热性优异，但是透明性低，不适合作为光学材料用树脂组合物。 专利文献1日本特开平06-258537号公报 专利文献2日本特开2003-195079号公报 专利文献3日本特开2000-47383号公报 专利文献4日本特开2000-147765号公报
技术实现思路
本专利技术是为了解决上述课题而进行的，目的是提供耐热性和透明性优异、且可溶于碱性水溶液的光学材料用树脂组合物，由该树脂组合物组成的光学材料用树脂薄膜及使用了这些的光波导。 本专利技术人反复进行深入研究的结果，发现通过使用含有(A)羧酸改性酚氧树脂、并且同时含有(B)聚合性化合物和(C)聚合引发剂的可溶于碱性水溶液的光学材料用树脂组合物、由该树脂组合物制成的光学材料用树脂薄膜制造光波导的话，可以解决上述课题。 即，本专利技术提供含有(A)羧酸改性酚氧树脂、(B)聚合性化合物、(C)聚合引发剂的光学材料用树脂组合物、由该树脂组合物制成的光学材料用薄膜、以及具有使用所述光学材料用树脂组合物或者所述光学材料用树脂薄膜形成的芯部和/或包层的光波导。其中，所述(A)羧酸改性酚氧树脂含有由下述通式(1)表示的重复单元(A-1)及由下述通式(2)表示的重复单元(A-2)。 (式中，X1表示 中的任意的2价基团。X2表示碳原子数1～20的2价的有机基团。 Y1表示 中任意的2价基团。R1～R19各自独立地表示氢原子、氟原子、碳原子数1～20的有机基团、碳原子数1～20的含氟有机基团中的任意一种。a表示2～10的整数。) (式中，X3表示 中的任意的2价基团。 Y2表示 中的任意的2价基团。R20～R38各自独立地表示氢原子、氟原子、碳原子数1～20的有机基团、碳原子数1～20的含氟有机基团中的任意一种。b表示2～10的整数。) 本专利技术的光学材料用树脂组合物及由该树脂组合物制成的光学材料用薄膜可溶于碱性水溶液，使用这些制造的光波导的耐热性和透明性优异。 附图说明 图1是说明本专利技术的光波导的方式的图，是截面图。 图2表示在本专利技术中实施的回流实验中的回流炉内的温度分布图。 符号说明 1是光波导；2是芯部；3是上部包层；4是下部包层；5是基板或覆膜。 具体实施例方式 本专利技术的光学材料用树脂组合物含有(A)羧酸改性酚氧树脂、(B)聚合性化合物和(C)聚合引发剂。进一步优选通过加热或活性光线的照射会固化的树脂组合物。 以下，对用于本专利技术的(A)成分进行说明。 作为用于本专利技术的(A)成分羧酸改性酚氧树脂，优选溶解于由碱性水溶液制成的显影液，且具有可实行作为目的的显影处理程度的溶解性的酚氧树脂。从透明性、耐热性、对碱性水溶液的溶解性的观点出发，使用主链上含有由下述通式(1)表示的重复单元(A-1)和由下述通式(2)表示的重复单元(A-2)的羧酸改性酚氧树脂。 (式中，X1表示 中的任意的2价基团。X2表示碳原子数1～20的2价的有机基团。 Y1表示 中的任意的2价基团。R1～R19各自独立地表示氢原子、氟原子、碳原子数1～20的有机基团、碳原子数1～20的含氟有机基团中的任意一种。a表示2～10的整数。) (式中，X3表示 中的任意的2价基团。 Y2表示 中的任意的2价基团。R20～R38各自独立地表示氢原子、氟原子、碳原子数1～20的有机基团、碳原子数1～20的含氟有机基团中的任意一种。b表示2～10的整数。) 作为通式(1)和(2)中的有机基团，可以举出例如烷基、环烷基、芳基、芳烷基、羰基、羧基、酯基、酰胺基、碳酸酯基、氨酯基、烷氧基、芳氧基、烷基硫代基、芳基硫代基、氨基、甲硅烷基、乙烯基、烯丙基、(甲基)丙烯酰基等1价或2价的基团，这些可以进一步被羟基、卤原子、烷基、环烷基、芳基、芳烷基、羰基、羧基、酯基、酰胺基、碳酸酯基、氨酯基、烷氧基、芳氧基、烷基硫代基、芳基硫代基、氨基、甲硅烷基、乙烯基、烯丙基、(甲基)丙烯酰基等取代。另外，(甲基)丙烯酰基表示丙烯酰基和/或甲基丙烯酰基。 在(A)成分羧酸改性酚氧树脂中，具有2官能酚骨架和羧基的重复单元(A-1)的含有率优选10～99质量％。如果在10质量％以上就会易溶于由碱性水溶液等制成的显影液，如果在99质量％以下，在后述的通过显影选择性地除去感光性树脂组合物的层而在形成图案的显影工序中，使耐显影液性(不会通过显影而被除去而成为图案的部分不被显影液侵蚀的性质)良好。从以上的观点出发，更优选20～95质量％，特别优选30～90质量％。 2官能酚骨架和具有羧基的重复单元(A-1)的结构，只要是能用通式(1)表示的结构就没有特别的限制。作为用于重复单元(A-1)的2官能酚骨架X1可以举出例如来源于氢醌、间苯二酚、儿茶酚、1，4-萘二酚、1，5-萘二酚、1，6-萘二酚、1，7-萘二酚等单核2官能酚、它们的有机基团取代物以及含氟有机基团取代物的骨架；来源于2，2’-联苯、4，4’-联苯、双酚A、四溴双酚A、双酚F、双酚AD、双酚S、芴型双酚等多核2官能酚、它们的有机基团取代物以及双酚AF等含氟有机基团取代物的骨架等。其中，从透明性和耐热性的观点出发，优选来源于上述多核2官能酚、它们的有机基团取代物以及双酚AF等含氟有机基团取代物的骨架。这些骨架可以单独或将2种以上组合使用。 作为用于重复单元(A-1)的有机基团X2，只要是碳原子数1～20的2价有机基团就没有特别的限制本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学材料用树脂组合物，其特征在于，含有（Ａ）羧酸改性酚氧树脂、（Ｂ）聚合性化合物及（Ｃ）聚合引发剂，所述（Ａ）羧酸改性酚氧树脂含有由下述通式（１）表示的重复单元（Ａ－１）和由下述通式（２）表示的重复单元（Ａ－２）：　－（－Ｘ↑［１ ］－ＣＨ↓［２］＊ＨＣＨ↓［２］－）－　（１）　式中，Ｘ↑［１］表示　＊＊＊　中的任意的２价基团；Ｘ↑［２］表示碳原子数１～２０的２价的有机基团；　Ｙ↑［１］表示　ＣＨ↓［２］，Ｃ（ＣＨ↓［３］）↓［２］，＊ ＊＊，＊＊＊，ＣＦ↓［２］，Ｃ（ＣＦ↓［３］）↓［２］，Ｏ，Ｓ，ＳＯ↓［２］　中的任意的２价基团；Ｒ↑［１］～Ｒ↑［１９］各自独立地表示氢原子、氟原子、碳原子数１～２０的有机基团、碳原子数１～２０的含氟有机基团中的任意一个；ａ表示２～ １０的整数；　－（Ｘ↑［３］－ＣＨ↓［２］＊ＨＣＨ↓［２］－）－　（２）　式中，Ｘ↑［３］表示　＊＊＊　中的任意的２价基团；　Ｙ↑［２］表示　ＣＨ↓［２］，Ｃ（ＣＨ↓［３］）↓［２］，＊＊＊，＊＊＊，Ｃ Ｆ↓［２］，Ｃ（ＣＦ↓［３］）↓［２］，Ｏ，Ｓ，ＳＯ↓［２］　中的任意的２价基团；Ｒ↑［２０］～Ｒ↑［３８］各自独立地表示氢原子、氟原子、碳原子数１～２０的有机基团、碳原子数１～２０的含氟有机基团中的任意一个；ｂ表示２～１０的整数。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：牧野龙也，高桥敦之，山口正利，高崎俊彦，柴田智章，落合雅美，
申请(专利权)人：日立化成工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[]