吲哚-2-基-哌嗪-1-基-甲酮衍生物制造技术

本发明专利技术涉及式（Ⅰ）化合物及其药用盐，其中Ａ和Ｒ↑［１］至Ｒ↑［４］如说明书和权利要求书中定义。所述化合物可用于治疗和／或预防与Ｈ３受体的调节有关的疾病。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
以下通式的化合物，　＊＊＊　Ⅰ，　其中　Ａ是Ｃ（Ｏ）或Ｓ（Ｏ）↓［２］；　Ｒ↑［１］选自：　低级烷基、低级烷氧基；　环烷基、低级环烷基烷基；　低级卤代烷基；　未取代的苯基、或被独立地选自下列 基团中的１至３个基团取代的苯基：低级烷基、低级烷氧基、卤素、低级卤代烷基和氰基；　低级苯基烷基，其中苯基环可以是未取代的，或者被独立地选自低级烷基、低级烷氧基、卤素、低级卤代烷基和氰基中的１至３个基团取代，　－ＮＲ↑［５］Ｒ↑［ ６］，其中Ｒ↑［５］和Ｒ↑［６］相互独立地选自低级烷基、环烷基、低级环烷基烷基、低级卤代烷基和低级苯基烷基，或者其中Ｒ↑［５］和Ｒ↑［６］与它们连接的氮原子一起形成５或６元杂环，所述５或６元杂环任选含有选自氮、氧或硫中的另外的杂原子；　 　Ｒ↑［２］选自氢；　低级烷基、环烷基、低级环烷基烷基；　低级羟基烷基、低级烷氧基烷基；　低级卤代烷基、低级氰基烷基；　低级烷基磺酰基；　低级烷酰基；　苯磺酰基，其中苯基环可以是未取代的，或者被独立地选自 下列基团中的１至３个基团取代：低级烷基、卤素、低级烷氧基、低级卤代烷氧基和低级羟基烷基；　未取代的苯基、或被独立地选自下列基团中的１至３个基团取代的苯基：低级烷基、卤素、氰基、吗啉基、低级烷氧基、低级烷氧基羰基、低级卤代烷基、低级卤代 烷氧基、低级羟基烷基、低级烷基磺酰基和低级烷基磺酰基氨基；　苯并二氧杂环戊烯基；　低级苯基烷基，其中苯基环可以是未取代的，或者被独立地选自下列基团中的１至３个基团取代：低级烷基、卤素、氰基、吗啉基、低级烷氧基、低级烷氧基羰基、低 级卤代烷基、低级卤代烷氧基、低级羟基烷基、低级烷基磺酰基和低级烷基磺酰基氨基；以及　未取代的杂芳基、或被独立地选自下列基团中的１或２个基团取代的杂芳基：低级烷基、低级烷氧基、氰基、吗啉基和卤素；　Ｒ↑［３］选自氢、卤素和甲基；　 　Ｒ↑［４］是选自以下的基团，　＊＊＊　其中　ｍ为０或１；　Ｒ↑［７］选自低级烷基、环烷基和低级卤代烷基；　Ｒ↑［８］选自低级烷基、环烷基和低级卤代烷基；　及其药用盐。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：马蒂亚斯内特科文，让马克普朗谢，汉斯里希特，奥里维耶罗什，斯文泰勒，
申请(专利权)人：霍夫曼拉罗奇有限公司，
类型：发明
国别省市：CH[瑞士]