气体供给系统、气体控制系统、等离子体处理装置以及气体控制方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种气体供给系统、气体控制系统、等离子体处理装置以及气体控制方法。气体供给系统具有：多个气体供给流路，其能够独立地供给气体；流量控制器，其配置于气体供给流路；一次侧阀，其配置于流量控制器的上游侧；一次侧气体排气流路，其在流量控制器与一次侧阀之间的位置分支出来，连接于一次侧排气机构；一次侧排气阀，其配置于一次侧气体排气流路；二次侧阀，其配置于流量控制器的下游侧；二次侧气体排气流路，其在流量控制器与二次侧阀之间的位置分支出来，连接于二次侧排气机构；二次侧排气阀，其配置于二次侧气体排气流路，流量控制器具有：控制阀，其与一次侧阀及二次侧阀连接；以及控制侧节流孔，其配置于控制阀与二次侧阀之间。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及一种气体供给系统、气体控制系统、等离子体处理装置以及气体控制方法。

技术介绍

1、在专利文献1中公开了一种气体供给控制方法，在该气体供给控制方法中使用了：压力控制式流量计，其设置于气体供给线路；第一阀，其设置于所述气体供给线路中的比所述压力控制式流量计靠上游侧的位置；以及第二阀，其设置于所述气体供给线路中的比所述压力控制式流量计靠下游侧的位置。另外，作为一例，专利文献1所记载的压力控制式流量计具有与第一阀及第二阀连接的控制阀、以及设置于控制阀与第二阀之间的节流孔。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特开2016-201530号公报

技术实现思路

1、专利技术要解决的问题

2、本公开所涉及的技术从用于控制向处理腔室内供给的气体的流量的流量控制器的内部适当地排出气体。

3、用于解决问题的方案

4、本公开的一个方式是一种向处理腔室内供给气体的气体供给系统，该气体供给系统具有：多个气体供给流路，各所述气体供给流路构成为本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种气体供给系统，向处理腔室内供给气体，所述气体供给系统具有：

2.根据权利要求1所述的气体供给系统，其中，还具有：

3.根据权利要求2所述的气体供给系统，其中，

4.根据权利要求1～3中的任一项所述的气体供给系统，其中，

5.根据权利要求1～4中的任一项所述的气体供给系统，其中，

6.根据权利要求5所述的气体供给系统，其中，

7.根据权利要求5或6所述的气体供给系统，其中，

8.一种气体供给系统，向处理腔室内供给气体，所述气体供给系统具有：

9.一种等离子体处理装置，对基板进行处理，所述...

【技术特征摘要】

1.一种气体供给系统，向处理腔室内供给气体，所述气体供给系统具有：

2.根据权利要求1所述的气体供给系统，其中，还具有：

3.根据权利要求2所述的气体供给系统，其中，

4.根据权利要求1～3中的任一项所述的气体供给系统，其中，

5.根据权利要求1～4中的任一项所述的气体供给系统，其中，

6.根据权利要求5所述的气体供给系统，其中，

7.根据权利要求5或6所述的气体供给系统，其中，

8.一种气体供给系统，向处理腔室内供给气体，所述气体供给系统具有：

9.一种等离子体处理装置，对基板进行处理，所述等离子体处理装置具备：

10.一种气体控制系统，控制气体向处理腔室内的供给，所述气体控制系统具有：

11.根据权利要求10...

【专利技术属性】
技术研发人员：泽地淳，石原田幸太，药师寺秀明，佐藤好保，森北信也，吉村正太，鹤田俊宽，鹰合一祥，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：