【技术实现步骤摘要】
【】本专利技术涉及电磁场领域，尤其涉及一种磁场导线及其制备方法、磁场线圈和芯片。
技术介绍
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技术介绍
1、现有的用于在芯片中产生磁场用来重置磁性层的磁化强度或磁矩的线圈，一般采用非磁金属，如铝、铜、铝铜合金等。完成加工后，通电流可产生磁场。然而受限于芯片供电电流及供电电压的限制，不能产生较大的磁场。
2、因此，亟需提出一种新的技术方案来解决上述问题。
技术实现思路
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技术实现思路
1、本专利技术的目的之一在于提供一种磁场导线及其制备方法、磁场线圈和芯片，所述磁场导线可以在同等条件下较传统导线产生更大的磁场。
2、根据本专利技术的一个方面，本专利技术提供一种磁场导线，用于在流过电流时在目标区域产生磁场。所述磁场导线包括：非磁性金属层；位于所述非磁性金属层的远离所述目标区域一侧的磁性金属层，其中所述磁性金属层的厚度小于非磁性金属层的厚度。
3、在一个实施例中，所述磁性金属层的宽度等于所述非磁性金属层的宽度，或者，所述磁性...
【技术保护点】
1.一种磁场导线，用于在流过电流时在目标区域产生磁场，其特征在于，其包括：
2.根据权利要求1所述的磁场导线，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的磁场导线，其特征在于，所述磁性金属层的材料为铁Fe、镍铁NiFe、钴铁CoFe、钴铁硼CoFeB、钴铁硅硼CoFeSiB、镍铁硅硼NiFeSiB、钴锆铌CoZrNi中的一种或几种；
4.根据权利要求1所述的磁场导线，其特征在于，所述磁性金属层的宽度等于所述非磁性金属层的宽度，或者，
5.根据权利要求1所述的磁场导线，其特征在于，所述磁场导线位于芯片中，用于在芯片中的目标区域产
【技术特征摘要】
1.一种磁场导线，用于在流过电流时在目标区域产生磁场，其特征在于，其包括：
2.根据权利要求1所述的磁场导线，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的磁场导线，其特征在于，所述磁性金属层的材料为铁fe、镍铁nife、钴铁cofe、钴铁硼cofeb、钴铁硅硼cofesib、镍铁硅硼nifesib、钴锆铌cozrni中的一种或几种；
4.根据权利要求1所述的磁场导线，其特征在于，所述磁性金属层的宽度等于所述非磁性金属层的宽度，或者，
5.根据权利要求1所述的磁场导线，其特征在于，所述磁场导线位于芯片中，用于在芯片中的目标区域产生磁场，
6.根据权利要求5所述的磁场导线，其特征在于，
7.根据权利要求1...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄黎，李尚坤，周巷庆，凌方舟，蒋乐跃，
申请(专利权)人：美新半导体无锡有限公司，
类型：发明
国别省市：
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