一种电离辐照制备纳孔碳基二维膜材料的方法及其产物技术

本发明专利技术公开了一种电离辐照制备纳孔碳基二维膜材料的方法及其产物，该制备方法包括以下步骤：步骤1：将二维碳基纳米材料分散在分散剂中，制备成分散液，将分散液制备成前驱体膜，备用；步骤2：对步骤1所制备的前驱体膜进行电离辐照处理，再对电离辐照处理后的前驱体膜进行退火处理，得到纳孔碳基二维膜材料。与传统方法相比，由于高能射线的独特理化性质，其在穿透膜材料过程中会同步产生物理损伤与化学效应，可以简化多孔制备流程；通过调控前驱体中原料配比与电离辐照条件，可实现膜材料层间气体分子大小与密度的控制，可以在后续退火过程实现膜材料表面的孔径与空密度的调控；因此，本发明专利技术提出的方法具有快速、高效、经济、节能等优点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及纳米材料，具体为一种电离辐照制备纳孔碳基二维膜材料的方法及其产物。

技术介绍

1、随着纳米科技的快速发展，纳米材料已经被广泛研究应用于能源、环境保护、生物医药、信息通讯等领域。其中，二维纳米材料因其独特的理化性质在能量存储、离子/分子分离、高效催化、传感技术上被广泛研究与应用。尤其在离子/分子分离应用，可根据分离目标离子或分子的尺寸，在二维纳米膜材料上设计相应的孔道，然后对孔道边缘进行修饰改性后，便可实现对离子或分子的精准筛分。

2、因此，人们针对二维纳米膜材料的孔道制备已经开展了大量研究，先后研究了剥离法、刻蚀法、电解法、自组装、模板法以及cvd法等技术制备纳孔二维纳米膜材料。剥离法主要利用块体材料，通过化学剥离或机械剥离，可以获得薄膜状的二维材料，并通过后续的处理在膜中形成孔道。刻蚀法通常是利用光刻技术在基板上预先制备出空洞结构，然后通过干法刻蚀或者湿法刻蚀去除部分材料，从而在二维膜中形成孔道。电解法通常用于制备金属氧化物或硫化物多孔结构，通过控制电解条件可实现孔道结构尺寸或间距的调节。一些聚合物可以通过自组装技术形成纳米结构本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种电离辐照制备纳孔碳基二维膜材料的方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种电离辐照制备纳孔碳基二维膜材料的方法，其特征在于，所述二维碳基纳米材料为石墨烯、氧化石墨烯、MXene中的一种或两种的任意比例混合。

3.根据权利要求1所述的一种电离辐照制备纳孔碳基二维膜材料的方法，其特征在于，所述分散剂为水、乙醇、DMF中的一种或几种的任意比例混合。

4.根据权利要求1所述的一种电离辐照制备纳孔碳基二维膜材料的方法，其特征在于，所述前驱体膜的制备方法为抽滤法或铺膜法。

5.根据权利要求1所述的一种电离辐照制备纳孔碳基二维...

【技术特征摘要】

1.一种电离辐照制备纳孔碳基二维膜材料的方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种电离辐照制备纳孔碳基二维膜材料的方法，其特征在于，所述二维碳基纳米材料为石墨烯、氧化石墨烯、mxene中的一种或两种的任意比例混合。

3.根据权利要求1所述的一种电离辐照制备纳孔碳基二维膜材料的方法，其特征在于，所述分散剂为水、乙醇、dmf中的一种或几种的任意比例混合。

4.根据权利要求1所述的一种电离辐照制备纳孔碳基二维膜材料的方法，其特征在于，所述前驱体膜的制备方法为抽滤法或铺膜法。

5.根据权利要求1所述的一种电离辐照制备纳孔碳基二维膜材料的方法，其特征在于，所述电离辐照处理的辐照源为电子加速器或钴源，射线能量为0.2-1...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄闻，李湛，齐伟，周凌，
申请(专利权)人：浙江云端飘雪超轻水科技有限公司，
类型：发明
国别省市：